[发明专利]掩膜组件及其曝光方法

说明书

一种掩膜组件及其曝光方法，通过交叠设置的第一掩膜板和第二掩膜板，使第一掩膜板的第一图形和第二掩膜板的第二图形相配合以形成目标图形，第一偏移标记对用于与所对应基准标记相对准。因此通过第一图形和第二图形的组合，能够形成不同形状的目标图形；而且第一偏移标记对之间间距与相邻基准标记之间间距不相等，所以通过使不同的第一偏移标记对与相对应基准标记相对准，从而使第一图形和第二图形之间产生相对位移，形成线宽、线距不同的目标图形；也就是说，本发明技术方案能够通过一个掩膜组件形成不同形状、线宽、线距的目标图形，从而能够有效减少掩膜板的数量，能够有效降低工艺成本，进而有利于彩色滤光基板成本的控制。

技术领域

本发明涉及平板显示领域，尤其涉及一种掩膜组件及其曝光方法。

背景技术

液晶显示装置以体积小，重量轻，低辐射等优点广泛应用于各种领域。

液晶显示面板是液晶显示装置中最主要的组成部分。所述液晶显示面板包括阵列基板(Thin Film Transistor，即TFT基板)、与所述阵列基板相对的彩色滤光基板(ColorFilter，即CF基板)以及填充于阵列基板和彩色滤光基板之间的液晶。其中，所述阵列基板和彩色滤光基板上的电极通过控制液晶分子的偏转，以调节外界光的通过率，进而达到显示的目的。

参考图1，示出了一种液晶显示面板中彩色滤光基板的剖面结构示意图。此处，以薄膜晶体管液晶显示面板(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD)为例进行说明。

目前所述彩色滤光基板主要包括：第一玻璃基板10；位于所述第一玻璃基板10上的黑矩阵层11(Black Matrix，BM层)、位于所述黑矩阵层11之间的彩色光阻层12(Red、Green、Blue，RGB层)、覆盖于所述黑矩阵层11和彩色光阻层12上的保护层13(Over Coat，OC层)、覆盖于所述保护层13上的透明导电层14(ITO层)以及位于所述透明导电层14上的间隔柱15(Photo Spacer，PS)。

其中，彩色光阻层12包括：蓝色光阻12b、红色光阻12r和绿色光阻12g，用于分别透过白光中的蓝光、红光和绿光，所述透明导电层14用作公共电极。

参考图2，示出了一种液晶显示面板的剖面结构示意图。

所述液晶显示面板还包括覆盖所述彩色滤光基板的阵列基板，所述阵列基板包括：第二玻璃基板20，位于所述第二玻璃基板20上的电极层21，所述电极层21包括多条栅极线和多条数据线以及位于栅极线和数据线交界处的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)，所述栅极线和数据线围成一个子像素22(Sub Pixel)，所述薄膜晶体管的漏极连接有像素电极。

所述阵列基板与所述彩色滤光基板以及所述间隔柱15围成的空间构成液晶盒，液晶填充于所述液晶盒中。阵列基板上像素电极和彩色滤光基板上公共电极之间形成的电场，能够控制液晶盒内液晶分子16的偏转角度，进而改变从所述液晶盒内透射光线的强度。

另一方面，所述彩色滤光基板上的所述蓝色光阻12b、所述红色光阻12r和所述绿色光阻12g，与阵列基板上的子像素22一一对应，三个子像素22构成一个像素23。

背光30经所述液晶盒透射后，透射至所述彩色光阻层12内，分别从所述蓝色光阻12b、所述红色光阻12r和所述绿色光阻12g。随着不同液晶盒内液晶分子16偏转角度的不同，透射不同液晶盒的光线强度不同，因此从所述蓝色光阻12b、所述红色光阻12r和所述绿色光阻12g出射的不同颜色光量也不尽相同，再基于加法混色原理使像素23可以得到丰富的色彩表现。

所以根据用途不同，液晶显示装置的性能要求也不同，因此彩色滤光基板上各层的形状和线宽、线距会随着液晶显示装置性能要求的改变而改变。现有技术制作不同形状、线宽、线距的彩色滤光基板，往往存在成本较高的问题。

发明内容