[发明专利]一种釉下彩抛釉砖的制备方法

说明书

技术领域

本发明属于釉砖制作技术领域，具体涉及一种釉下彩抛釉砖的制备方法。

背景技术

陶瓷砖现作为室内装修的主要材料，经过近二十几年的发展，制作技术已经突飞猛进。尤其是近几年，随着微晶石、K金砖等釉下彩在市场上的崛起，陶瓷砖越来越向高端发展。现有的K金砖制备工艺主要采用黄金或白金进行镀金，使得这类的K金砖金属质感较为浓厚，显得过于华丽和闪耀，仅适合少部分高端场所的使用，不符合现代年轻一代人的时尚需求及其追求简约、素雅的新现代化家居理念。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明的目的在于提供一种釉下彩抛釉砖的制备方法。其具体技术方案如下：

一种釉下彩抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：

a)在砖坯的表面上进行丝网印刷印上一层底釉；

b)采用喷墨印花技术在底釉表面印上图案，同时印上闪光材料；

c)在印好图案的砖坯上覆盖上熔块，然后在960～990℃条件下、80～100min烧成，使表面熔块熔合成透明的玻璃体，得到第一产品；

d)在真空度为3.0^-2～4.0^-2Pa的真空条件下，采用钛块配合高纯度氧气在第一产品的表面电镀上绸缎般的电光，得到第二产品；

e)对第二产品进行抛光，将其表面的熔块抛平，再用羊毛轮和稀土增光粉进行打磨增光，得到所述釉下彩抛釉砖。

优选的，在步骤c)和步骤d)之间还包括：将所述第一产品在200～250℃下烘干。

更优选的，步骤d)在真空镀膜炉中进行；

烘干后的第一产品在所述真空镀膜炉中的停留时间为1～1.5min，转速为10～20rpm。

优选的，在步骤a)和步骤b)之间还包括：采用喷火工艺结合风机作用，对砖坯表面的底釉进行快速干燥。

优选的，所述烧成的温度为970℃～980℃，时间为85～95min。

优选的，步骤b)所述闪光材料为由以下化学成分按重量AL₂O₃：27.3％，SiO₂：49.5％，Fe₂O₃：3％，MgO：1.8％，K₂O：10.6％，Na₂O：1.5％，余量SiO₂组成。

优选的，步骤a)所述底釉和步骤c)所述熔块的材料由以下化学成分按重量AL₂O₃：6.5％，Fe₂O₃：0.07％，CaO：3.48％，MgO：0.43％，K₂O：2.32％，Na₂O：3.65％，TiO₂：0.02％，B₂O₃：11.95％，PbO：<0.01％，ZnO：1.05％，ZrO₂：<0.02％，BaO：4.30％，Li₂O：<0.01％，余量SiO₂组成。

与现有技术相比，本发明的制备方法具有以下有益效果：

1)本发明所提供的制备方法属于K金陶瓷砖的一种新的生产工艺，属业内首创，填补了市场空白；本发明方法首先通过喷墨印刷在砖坯表面印上花纹图案并同时印上闪光材料，然后堆积熔块并高温烧制，再在真空镀膜炉中采用钛块配合高纯度氧气进行电镀，由此得到的抛釉砖产品表面出现绸缎般的电光光泽，与闪光材料经高温煅烧后产生的独特的闪光效果相结合，既精致时尚，又简约素雅，满足了大部分现代年轻人追求简约，素雅的新现代家居理念；

2)熔块经高温烧制后形成的玻璃体表面可以做成千变万化的沟槽，在真空镀膜炉中镀上电光后，沟槽中不能打磨掉的电光就形成了各种千变万化的图案，极具特殊的立体感；

3)本发明在底釉表面印上图案这一工序采用的是喷墨印花技术，实现多重色彩同时着色，融合性更好，使得产品表面纹理鲜明清晰，色彩更为丰富细腻；和原有丝网印刷工艺相比，具有工艺简单、耗时少、生产高效和产品优质等多种优点。

具体实施方式

下面将结合本发明具体实施例，对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1