[发明专利]一种釉下彩抛釉砖的制备方法

权利要求书

1.一种釉下彩抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a)在砖坯的表面上进行丝网印刷印上一层底釉；

b)采用喷墨印花技术在底釉表面印上图案，同时印上闪光材料；

c)在印好图案的砖坯上覆盖上熔块，然后在960～990℃条件下、80～100min烧成，使表面熔块熔合成透明的玻璃体，得到第一产品；

d)在真空度为3.0^-2～4.0^-2Pa的真空条件下，采用钛块配合高纯度氧气在第一产品的表面电镀上绸缎般的电光，得到第二产品；

e)对第二产品进行抛光，将其表面的熔块抛平，再用羊毛轮和稀土增光粉进行打磨增光，得到所述釉下彩抛釉砖。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤c)和步骤d)之间还包括：将所述第一产品在200～250℃下烘干。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤d)在真空镀膜炉中进行；

烘干后的第一产品在所述真空镀膜炉中的停留时间为1～1.5min，转速为10～20rpm。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤a)和步骤b)之间还包括：采用喷火工艺结合风机作用，对砖坯表面的底釉进行快速干燥。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述烧成的温度为970℃～980℃，时间为85～95min。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤b)所述闪光材料为由以下化学成分按重量AL₂O₃：27.3％，SiO₂：49.5％，Fe₂O₃：3％，MgO：1.8％，K₂O：10.6％，Na₂O：1.5％，余量SiO₂组成。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤a)所述底釉和步骤c)所述熔块的材料由以下化学成分按重量AL₂O₃：6.5％，Fe₂O₃：0.07％，CaO：3.48％，MgO：0.43％，K₂O：2.32％，Na₂O：3.65％，TiO₂：0.02％，B₂O₃：11.95％，PbO：<0.01％，ZnO：1.05％，ZrO₂：<0.02％，BaO：4.30％，Li₂O：<0.01％，余量SiO₂组成。