[发明专利]一种延长ALD真空计使用寿命的方法有效
申请号: | 201711178850.0 | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN107841730B | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 张洪国;夏玉明;夏树胜;王超;张凯;马军涛 | 申请(专利权)人: | 滁州国凯电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/455 |
代理公司: | 江苏斐多律师事务所 32332 | 代理人: | 袁敏 |
地址: | 239000 安徽省滁州市世*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 延长 ald 真空计 使用寿命 方法 | ||
1.一种延长ALD真空计使用寿命的方法,其特征在于,所述方法为:对真空计电磁阀进行间断关闭控制;
所述方法具体步骤包括:
(1)在ALD未进行沉积工作时,将真空计电磁阀打开;
(2)当ALD开始沉积工作时,利用真空计电磁阀检测系统的真空度;
(3)开启真空计控制系统,当系统真空度达到设定的要求时,且数据稳定后,关闭电磁阀;
(4)一段时间后短暂打开电磁阀以监测系统真空度,保证系统的真空度在设定值范围内;
所述真空计的控制是用以PLC控制器为基础的,采用PID闭环控制方式进行,其中真空计电磁阀通过RS232或RS485串口与PLC控制器连接。
2.根据权利要求1所述的一种延长ALD真空计使用寿命的方法,其特征在于,所述的ALD真空计包括电极、传感器、灯丝。
3.根据权利要求1所述的一种延长ALD真空计使用寿命的方法,其特征在于,所述步骤(3)的真空度数据稳定是指,系统内的真空度与设定值偏差≤5%。
4.根据权利要求1所述的一种延长ALD真空计使用寿命的方法,其特征在于,所述的步骤(4)中,一段时间指1-10min。
5.根据权利要求1所述的一种延长ALD真空计使用寿命的方法,其特征在于,所述的步骤(4)中,短暂打开电磁阀是指每次打开时间为1-10s。
6.权利要求1-5任一项所述的一种延长ALD真空计使用寿命的方法,其特征 在于,所述的ALD设备包括反应室(1),四通管道(2),真空泵阀门(3),热阱(4),真空计(5),真空计电磁阀(6)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的