[发明专利]面板的制造方法及阵列基板

说明书

一种面板的制造方法包括下列步骤：提供包括偏光图案的阵列基板；形成配向材料层于阵列基板上；提供光源模块，其中偏光图案位于光源模块与配向材料层之间，且光源模块射出的光线穿过偏光图案以对配向材料层进行光配向。本发明提供一种阵列基板。

技术领域

本发明是有关于一种面板的制造方法，且特别是有关于一种涉及光配向技术的面板及阵列基板。

背景技术

为了要使显示面板中的液晶分子沿着预定的方向排列，往往需要在制造显示面板的过程中进行配向处理工艺。在配向处理工艺中，刷磨式的配向容易造成微尘、应力不均等诸多问题，因此，光配向工艺便是另一种选择。在光配向工艺中，利用光线照射基板上的配向材料层，使预定方向上的配向材料层发生化学反应而产生配向，因此，后续填入的液晶分子能沿着预定的方向排列。

在目前的光配向技术中，需要利用光配向机台上的偏光片来偏振光源模块所射出的光线，但因为光配向机台与母板之间有一段距离，故光配向路径可能产生些许误差而导致配向效果不符预期，或者是，若光配向机台使用了拼接式的偏光片，则因为拼接处的积光量往往不足，而可能导致不同时间配向的区域之间出现了不连续的配向瑕疵。

发明内容

本发明的至少一实施例提供一种面板的制造方法，可以解决光配向技术中，部分区域出现积光量不足的问题。

本发明的至少一实施例提供一种阵列基板，可以解决光配向技术中，阵列基板在部分区域出现配向瑕疵的问题。

本发明的至少一实施例提供一种面板的制造方法包括下列步骤：提供包括偏光图案的阵列基板；形成配向材料层于阵列基板上；提供光源模块，其中偏光图案位于光源模块与配向材料层的间，光源模块射出的光线穿过偏光图案以对配向材料层进行光配向。

本发明的至少一实施例提供一种阵列基板，包括多条扫描线、多条数据线、多个主动元件、多个第一电极与下偏光图案。多个主动元件分别与扫描线及数据线电性连接。下偏光图案与第一电极重迭，且下偏光图案具有多个平行的下偏光狭缝。扫描线中的一个具有扫描线狭缝，且与下偏光图案重迭；及/或数据线中的一个具有数据线狭缝，且与下偏光图案迭。

本发明的至少一实施例提供一种阵列基板，包括黑色矩阵以及上偏光图案。黑色矩阵包括多个第一狭缝。上偏光图案包括多个上偏光狭缝，且上偏光图案与黑色矩阵的第一狭缝重迭。

本发明的目的的一为不需要在光配向机台上设置偏光片。

本发明的目的的一为解决面板在部分区域出现配向瑕疵的问题。

本发明的目的的一为使扫描线及/或数据线周围能有较佳的配向质量。

本发明的目的的一为使黑色矩阵周围能有较佳的配向质量。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。

附图说明

图1A是依照本发明的一实施例的阵列基板的上视示意图。

图1B是图1A中剖线AA’以及阵列基板的局部周边区的剖面示意图。

图2是依照本发明的一实施例的阵列基板的剖面示意图。

图3是依照本发明的一实施例的阵列基板的剖面示意图。

图4是依照本发明的一实施例的阵列基板的上视示意图。

图5A是依照本发明的一实施例的阵列基板的上视示意图。

图5B是图5A中剖线BB’的剖面示意图。

图6是依照本发明的一实施例的阵列基板的剖面示意图。

图7是依照本发明的一实施例的一种面板的剖面示意图。