[发明专利]面板的制造方法及阵列基板

权利要求书

1.一种面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供一阵列基板，该阵列基板包括一偏光图案；

形成一配向材料层于该阵列基板上；以及

提供一光源模块，其中该偏光图案位于该光源模块与该配向材料层之间，且该光源模块射出的光线穿过该偏光图案以对该配向材料层进行光配向；

其中，该阵列基板还包括多条扫描线，该些扫描线中的至少一个具有一扫描线狭缝，该扫描线狭缝的延伸方向平行于对应的该扫描线的延伸方向，该扫描线狭缝的宽度为对应的该扫描线的宽度的1％至50％，且该偏光图案与该些扫描线属于不同膜层。

2.根据权利要求1所述的面板的制造方法，其特征在于，该阵列基板更包括：

多条数据线；

多个主动元件，分别与该些扫描线及该些数据线电性连接；以及

多个第一电极，其中该偏光图案包括一下偏光图案，该下偏光图案至少与部分该些扫描线及/或部分该些数据线及/或该些第一电极重迭，其中该下偏光图案具有多个下偏光狭缝，该配向材料层包括一下配向材料层，该光源模块射出的光线穿过该下偏光图案以对该下配向材料层进行光配向。

3.根据权利要求2所述的面板的制造方法，其特征在于，该些数据线中的至少一个具有一数据线狭缝，该数据线狭缝的延伸方向平行于对应的该数据线的延伸方向，该数据线狭缝的宽度为对应的该数据线的宽度的1％至50％，且该下偏光图案与该些数据线属于不同膜层。

4.根据权利要求2所述的面板的制造方法，其特征在于，在该光源模块射出的光线穿过该下偏光图案以对该下配向材料层进行光配向之后，更包括以一封胶接合该阵列基板以及另一阵列基板。

5.根据权利要求2所述的面板的制造方法，其特征在于，在该光源模块射出的光线穿过该下偏光图案以对该下配向材料层进行光配向之前，更包括以一封胶接合该阵列基板以及另一阵列基板。

6.根据权利要求2所述的面板的制造方法，其特征在于，该些第一电极具有多个电极狭缝，该些下偏光狭缝与对应的该些电极狭缝的夹角为-15度至15度或75度至105度。

7.根据权利要求6所述的面板的制造方法，其特征在于，该阵列基板更包括多个第二电极电性连接于至少一共通线，该些第一电极分别与对应的该主动元件电性连接。

8.根据权利要求1所述的面板的制造方法，其特征在于，该阵列基板更包括一黑色矩阵，其中该偏光图案包括一上偏光图案，该上偏光图案与该黑色矩阵至少部分重迭，该上偏光图案包括多个上偏光狭缝，该配向材料层包括一上配向材料层，且该光源模块射出的光线穿过该上偏光图案以对该上配向材料层进行光配向。

9.根据权利要求8所述的面板的制造方法，其特征在于，该阵列基板更包括一彩色滤光元件，与该上偏光图案重迭。

10.根据权利要求8所述的面板的制造方法，其特征在于，该黑色矩阵具有多个第一狭缝，该些第一狭缝的宽度为该黑色矩阵的宽度的1％至50％。

11.根据权利要求10所述的面板的制造方法，其特征在于，更包括：

提供复数液晶分子于该阵列基板以及另一阵列基板之间；以及

以一封胶接合该阵列基板以及该另一阵列基板，该另一阵列基板包括：

多条扫描线与多条数据线；以及

多个主动元件，分别与该些扫描线及该些数据线电性连接，其中该黑色矩阵重迭于该些扫描线及该些数据线，该些第一狭缝平行于该些扫描线的延伸方向，且该黑色矩阵还具有多个第二狭缝，该些第二狭缝的延伸方向平行于该些数据线的延伸方向。