[发明专利]一种防堵防尘铝合金金属铸造模具在审
申请号: | 201711104724.0 | 申请日: | 2017-11-10 |
公开(公告)号: | CN107661964A | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
发明(设计)人: | 陈金耀 | 申请(专利权)人: | 江门耀兴精铸制品有限公司 |
主分类号: | B22C9/08 | 分类号: | B22C9/08 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人: | 梁嘉琦 |
地址: | 529000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防尘 铝合金 金属 铸造 模具 | ||
技术领域
本发明属于金属铸造技术领域,尤其是涉及一种防堵防尘铝合金金属铸造模具。
背景技术
在冶金行业中,铝合金金属铸造模是用于铸铝工艺中浇注铸铝的模具,广泛用于铝合金铸造企业的铸铝设备中,高温铝水通过模具上的浇注口注入模具,然而因为铝水中含有少量铝渣,在浇注过程中经常发生模具堵塞的问题,不利于自身补缩,从而耗铝水量大,同时现有的模具排气孔为直孔,灰尘容易从排气孔进入模具,模具内部不能保持清洁,影响模具浇注的产品表面质量,影响产品品质。
另一方面在浇注铝水的过程中,检验不到模腔内是否已经被铝水填满,因此很难控制浇注量与浇注速度。
发明内容
为了解决上述问题,本发明的目的在于提供一种防堵、防尘且能观察到模腔是否被铝水填满的铝合金金属铸造模具。
本发明为解决其技术问题而采用的技术方案是:
一种防堵防尘铝合金金属铸造模具,包括上模和下模,所述下模内设置有模腔浇注通道,所述浇注通道设置于所述上模上,还包括:
圆槽型浇注口,所述圆槽型浇注口设置于所述上模上端面中部,所述圆槽型浇注口内圆面上设置有过滤网;
锥形流道,所述锥形流道上端与圆槽型浇注口的底部相连,所述锥形流道为上大下小的形状;
球形补缩口,所述球形补缩口与锥形流道的下端相连;
斜置流道,所述斜置流道的上端与所述球形补缩口的底部相连;
竖直流道,所述竖直流道的上端与所述斜置流道的下端连接,所述竖直流道的下端口设置在上模下端面上与下模内的模腔连通;
排气孔道,所述排气孔道为L型孔道,所述排气孔道设置于所述上模两侧,所述排气孔道的一端连接模腔,另一端连接上模侧壁;
检验通道,所述检验通道设置于所述上模上;所述检验通道一端和所述模腔相连,另一端延伸出所述上模的侧面形成延伸部。
优选地,所述过滤网的外形与圆槽型浇注口的内表面形状相配,且过滤网的边缘设有与上模上端面靠接的沿边。
优选地,所述斜置流道关于球形补缩口的竖直中心轴向对称设置有若干个。
优选地,所述检验通道为L型,所述检验通道的位置低于所述排气孔道。
优选地,所述检验通道的延伸部设置有阀门。
本发明的有益效果:本发明包括上模和下模,所述下模内设置有模腔,所述上模上端面中部设置有圆槽型浇注口,所述圆槽型浇注口内圆面上设置有过滤网,圆槽型浇注口的底部连接有一锥形流道,所述锥形流道为上大下小的形状,锥形流道的下端连接一个球形补缩口,球形补缩口下端连接斜置流道,所述斜置流道的上端与所述球形补缩口的底部相连,所述斜置流道的下端连接竖直流道,所述竖直流道的上端与所述斜置流道的下端连接,所述竖直流道的下端口设置在上模下端面上与下模内的模腔连通,在上模上设置有呈L型的排气孔道,所述排气孔道设置于所述上模的两侧并和模腔连通,所述上模上还设置有检验通道,所述检验通道一端和所述模腔相连,另一端延伸出所述上模的侧面形成延伸部。这样本技术方案通过在圆槽型浇注口上设置过滤网,过滤熔炼液体中的杂志,避免进入模具,通过设置球形补缩口,并通过上大下小的锥形流道连接圆槽型浇注口和球形补缩口,模具的补缩效果更好,同时采用斜置流道连接球形补缩口,竖直流道连接斜置流道和模腔,可使球形补缩口内的熔炼液体经流道快速的流进模腔,避免了杂质在流道内堆积而堵塞流道,同时将上模内两侧的排气孔道设置成L型孔道,避免了灰尘直接从排气孔道进入模具的模腔,保证模腔内的清洁,确保了生产的品质,而检验通道的设置,能方便我们观察模腔是否填满。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1是本发明的剖视图;
图2是本发明过滤网俯视图。
具体实施方式
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后…)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。另外,在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
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