[发明专利]一种制备改性丁苯胶乳的方法、由此得到的改性丁苯胶乳及其应用有效
申请号: | 201711063030.7 | 申请日: | 2017-11-02 |
公开(公告)号: | CN107779124B | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | 蔡辉;江一明;董巍;伍云俊 | 申请(专利权)人: | 新辉(中国)新材料有限公司 |
主分类号: | C09J109/08 | 分类号: | C09J109/08;C09J11/04;C08F236/06;C08F212/08;C08F220/06;C08F220/20;C08F222/02;C08F222/14;C08F220/18;C08F212/36;C08F2/44;C08F2/26 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李小梅;刘金辉 |
地址: | 529158 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 改性 胶乳 方法 由此 得到 及其 应用 | ||
1.一种制备改性丁苯胶乳的方法,该方法包括如下步骤:
提供包含软化水、具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物的水分散液、部分引发剂和部分乳化剂的底料,当使用氧化还原引发体系时,该底料中包含的引发剂为氧化还原引发体系中的全部或部分氧化剂组分;
提供包含苯乙烯、软化水和剩余乳化剂的单体乳化液,当使用氧化还原引发体系并且该引发体系的氧化剂部分添加到底料中时,该单体乳化液中还包含氧化还原引发体系中的剩余部分氧化剂组分;
提供剩余引发剂在软化水中的引发剂水溶液,当使用氧化还原引发体系时该引发剂水溶液包含的引发剂为氧化还原引发体系中的还原剂组分;
将一部分所述单体乳化液与所述底料在惰性气氛下在反应器中混合均匀,将所得混合物升温至60-75℃后,将剩余的所述单体乳化液、丁二烯和所述引发剂水溶液分别同时连续加入,加料期间温度保持为60-95℃,加料完毕经进一步聚合,即得到改性丁苯胶乳。
2.根据权利要求1的方法,其中当使用氧化还原引发体系并且引发体系的氧化剂部分添加到底料中时,所述单体乳化液中还包含氧化还原引发体系中的剩余部分氧化剂组分,此时底料中添加的氧化剂组分与单体乳化液中添加的氧化剂组分的重量比为2:7-4:1。
3.根据权利要求1的方法,其中当使用氧化还原引发体系并且引发体系的氧化剂部分添加到底料中时,所述单体乳化液中还包含氧化还原引发体系中的剩余部分氧化剂组分,此时底料中添加的氧化剂组分与单体乳化液中添加的氧化剂组分的重量比为1:2-3:2。
4.根据权利要求1的方法,其中具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物的水分散液包含纳米氧化锌颗粒、纳米二氧化钛颗粒和/或纳米二氧化铈颗粒;具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物的水分散液还包含不具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物;和/或,无机纳米氧化物颗粒的平均粒径小于100nm。
5.根据权利要求4的方法,其中不具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物为纳米二氧化硅颗粒和/或纳米三氧化二铝颗粒。
6.根据权利要求4的方法,其中无机纳米氧化物颗粒的平均粒径为20-90nm。
7.根据权利要求1-6中任一项的方法,其中各物料以重量份计的用量如下:
总软水:100份;
具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物的水分散液中的无机纳米氧化物:0.5-8份,并且如果水分散液中存在不具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物,则其量不超过无机纳米氧化物总量的50重量%;
丁二烯:25-70份;
苯乙烯:20-75份;和
乳化剂:0.5-5份。
8.根据权利要求1-6中任一项的方法,其中各物料以重量份计的用量如下:总软水:100份;
具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物的水分散液中的无机纳米氧化物:0.8-5份,并且如果水分散液中存在不具有抗菌防霉功能的无机纳米氧化物,则其量不超过无机纳米氧化物总量的50重量%;
丁二烯:35-60份;
苯乙烯:40-50份;和
乳化剂:0.6-4份。
9.根据权利要求1-6中任一项的方法,其中所述乳化剂为阴离子乳化剂、非离子乳化剂或者阴离子乳化剂与非离子乳化剂的复合乳化剂。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新辉(中国)新材料有限公司,未经新辉(中国)新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711063030.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:二维全息衍射光栅制作装置
- 下一篇:导光装置及具有该导光装置的化妆镜