[发明专利]测试高功率紫外激光器M2

权利要求书

1.一种测试高功率紫外激光器M²因子的检测装置，其特征在于，包括激光器调节座、光路衰减系统和M²因子测量仪；所述激光器调节座用于调节待测激光器的激光出射方向，以将待测激光器的激光经所述光路衰减系统传输至所述M²因子测量仪进行M²因子测试；所述检测装置还包括第一小孔光阑、第二小孔光阑、第一全反镜和第二全反镜，所述第一小孔光阑和所述第二小孔光阑可拆卸地设置于所述光路衰减系统中，用于校准待测激光器的激光经所述光路衰减系统传输至所述M²因子测量仪的光路，且在调整好待测激光器与所述光路衰减系统之间的光路后移除；所述第一全反镜和第二全反镜的反射面相对设置，且可相对转动，以对待测激光器的激光入射所述光路衰减系统的方向进行调节；所述光路衰减系统包括第一级衰减组件，所述第一级衰减组件包括半玻片和偏振片；所述半玻片设于所述第二全反镜与所述偏振片之间，所述第一小孔光阑位于所述第二全反镜与所述半玻片之间。

2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述光路衰减系统还包括第二级衰减组件和带通滤光片，经所述第一全反镜和第二全反镜调节后的激光依次经过所述第一级衰减组件、第二级衰减组件和带通滤光片进行衰减后，进入所述M²因子测量仪进行M²因子测试。

3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括密封导管，所述带通滤光片与所述M²因子测量仪通过所述密封导管相连。

4.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述偏振片的一侧设有一级遮光筒，入射到所述偏振片上的激光一部分被反射到所述一级遮光筒中，另一部分透过所述偏振片并经所述第二级衰减组件进行衰减后入射到M²因子测量仪。

5.根据权利要求4所述的检测装置，其特征在于，所述第二小孔光阑位于所述偏振片与所述第二级衰减组件之间。

6.根据权利要求2-5任一项所述的检测装置，其特征在于，所述第二级衰减组件包括多个对应设置的楔形镜和二级遮光筒，且相邻的所述楔形镜的反射面相对设置，激光在多个所述楔形镜之间的传输光路被设置为：经过楔形镜的激光，一部分被反射至后一个楔形镜，另一部分从楔形镜透射到相应的二级遮光筒内。

7.根据权利要求6所述的检测装置，其特征在于，所述楔形镜的反射率为3%~5%。

8.根据权利要求6所述的检测装置，其特征在于，所述楔形镜具有4个，分别为第一楔形镜、第二楔形镜、第三楔形镜和第四楔形镜，所述第一楔形镜、所述第二楔形镜、所述第三楔形镜和所述第四楔形镜依次设置于所述偏振片与所述带通滤光片之间，经过所述第一级衰减组件后的激光依次经第一楔形镜、第二楔形镜、第三楔形镜和第四楔形镜反射并最终入射到带通滤光片。

9.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述激光器调节座包括水平调节机构、竖直调节机构和转动机构，所述水平调节机构用于调节待测激光器的水平位置，所述竖直调节机构用于调节待测激光器的竖直位置，所述转动机构用于调节待测激光器的激光出射角度。

10.根据权利要求9所述的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括对准器，所述对准器靠近所述第一全反镜的一端与所述第一全反镜的转动轴心相对。