[发明专利]一种调节扩散气氛的一次扩散工艺有效
| 申请号： | 201711057793.0 | 申请日： | 2017-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN109755113B | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 黄志焕;李亚哲;梁效峰;王浩;徐长坡;陈澄;杨玉聪;王晓捧 | 申请（专利权）人： | 天津环鑫科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/22 | 分类号： | H01L21/22;H01L21/225;H01L21/324 |
| 代理公司： | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人： | 栾志超 |
| 地址： | 300380 天津市西青区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 调节 扩散 气氛 一次 工艺 | ||
1.一种调节扩散气氛的一次扩散工艺，其特征在于：将涂源后的硅片设于扩散炉中按照扩散曲线进行扩散，在扩散过程中通入一定比例的氮气和氧气，在扩散升温过程中通入所述一定比例的氮气和氧气；
所述的扩散曲线包括升温过程，所述升温过程具体包括以下步骤：
S1：将所述扩散炉的温度由500-600℃升至1000-1200℃，升温时间为4-5h；
S2：保持所述扩散炉的温度为1000-1200℃，恒温时间为3-4h；
S3：将所述扩散炉的温度由1000-1200℃升至1250-1300℃，升温时间为30-60min；
S4：保持所述扩散炉的温度为1250-1300℃，恒温时间为20-30h；
所述扩散曲线还包括降温过程，所述降温过程具体包括以下步骤：
S5：将所述扩散炉的温度由1250-1300℃降至700-800℃，时间为3-4h；
S6：保持所述扩散炉的温度为700-800℃，恒温时间为3-4h；
S7：将所述扩散炉的温度由700-800℃降至500-600℃，时间为1-2h。
2.根据权利要求1所述的调节扩散气氛的一次扩散工艺，其特征在于：所述一定比例的氮气和氧气的比例为1-10。
3.根据权利要求1所述的调节扩散气氛的一次扩散工艺，其特征在于：所述步骤S1、所述步骤S2和所述步骤S3中均通入所述一定比例的氮气和氧气。
4.根据权利要求3所述的调节扩散气氛的一次扩散工艺，其特征在于：所述步骤S4中关闭氧气，通入氮气。
5.根据权利要求1所述的调节扩散气氛的一次扩散工艺，其特征在于：所述步骤S5、所述步骤S6和所述步骤S7中均关闭氮气，通入氧气。
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