[发明专利]一种射嘴孔深度的检测方法及装置

权利要求书

1.一种射嘴孔深度的检测方法，其特征在于，该方法是先根据射嘴孔(3)的形状随形设置一根由大圆柱体(1a)和锥体(1b)以及小圆柱体(1c)依次衔接构成的检棒(1)，同时以所述检棒(1)上的大圆柱体(1a)与锥体(1b)的衔接平面作为基准面(2)，并预先测量所述基准面(2)到所述大圆柱体(1a)顶面的距离L；然后将所述检棒(1)插接在射嘴孔(3)内，并使用测量工具(4)测量所述大圆柱体(1a)顶面到芯盒(5)顶面的距离H；最后通过算式L-H换算即可得出射嘴孔(3)的大圆柱孔深度。

2.根据权利要求1所述的一种射嘴孔深度的检测方法，其特征在于，将所述基准面(2)到所述大圆柱体(1a)顶面的距离L刻录在所述的检棒(1)上。

3.根据权利要求1所述的一种射嘴孔深度的检测方法，其特征在于，在所述大圆柱体(1a)与锥体(1b)的衔接处、所述小圆柱体(1c)与锥体(1b)的衔接处分别设置第一让位部(6)和第二让位部(7)。

4.一种根据权利要求1所述的射嘴孔深度的检测装置，包括测量工具(4)，其特征在于，还包括一可插接于射嘴孔(3)内的检棒(1)，所述的检棒(1)由大圆柱体(1a)、锥体(1b)和小圆柱体(1c)依次衔接构成，所述的大圆柱体(1a)与所述的锥体(1b)的衔接处形成一个可与所述射嘴孔(3)的锥孔顶面接触相连的基准面(2)，所述大圆柱体(1a)与锥体(1b)的衔接处设有第一让位部(6)，相应的，所述小圆柱体(1c)与锥体(1b)的衔接处设有第二让位部(7)。

5.根据权利要求4所述的一种射嘴孔深度的检测装置，其特征在于，所述的检棒(1)与所述的射嘴孔(3)相适配。

6.根据权利要求4所述的一种射嘴孔深度的检测装置，其特征在于，所述大圆柱体(1a)的直径与所述锥体(1b)的大端直径相等，相应的，所述小圆柱体(1c)直径与所述锥体(1b)的小端直径相等。

7.根据权利要求4所述的一种射嘴孔深度的检测装置，其特征在于，所述的第一让位部(6)为沿所述大圆柱体(1a)的径向内凹并将所述大圆柱体(1a)与锥体(1b)的衔接平面覆盖的环形缺口，相应的，所述的第二让位部(7)为沿所述锥体(1b)上较小一端的径向内凹的环形缺口。

8.根据权利要求4-7中任意一项所述的一种射嘴孔深度的检测装置，其特征在于，所述的大圆柱体(1a)、锥体(1b)以及小圆柱体(1c)为一体成型的结构，并且，所述圆柱体(1a)、锥体(1b)以及小圆柱体(1c)的轴心线相重合。

9.根据权利要求8所述的一种射嘴孔深度的检测装置，其特征在于，所述的检棒(1)顶部设有一可与所述测量工具(4)相连的测量面(8)。