[发明专利]气浴装置、该气浴装置的制备方法以及光刻设备在审
申请号: | 201711046779.0 | 申请日: | 2017-10-31 |
公开(公告)号: | CN109725494A | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 杨志斌;高玉英;俞芸;魏巍 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 温控介质 进气接口 出风口 光刻设备 壳体 制备 测量传感器 通道设置 吹出 流体 体内 交换 | ||
本发明提供了气浴装置、该气浴装置的制备方法以及光刻设备,包括壳体、进气接口、温控介质通道、出风口,所述进气接口、所述出风口设置于所述壳体上,所述温控介质通道设置于所述壳体内,所述温控介质通道内用于通入流体的温控介质,气体由所述进气接口进入,与所述温控介质通过所述温控介质通道进行交换热量后由所述出风口吹出。本发明提供的气浴装置能够使得测量传感器的精度高。
技术领域
本发明属于光刻技术领域,涉及气浴装置、该气浴装置的制备方法以及光刻设备。
背景技术
气浴装置是对光刻设备空间光路或核心器件进行精确控温的主要器件。气浴装置送风的均匀性和稳定性是评价气浴装置的主要性能指标,气浴装置结构紧凑性是决定气浴装置是否可集成到整机上的重要结构指标。
现有技术设计的气浴装置均匀性很难突破20mk,对双台及TFT等大空间光程设计的传统气浴,700mm以上长光程上空气温度均匀性更差,导致测量传感器精度难以提高。
发明内容
本发明的目的在于提供气浴装置、该气浴装置的制备方法以及光刻设备,旨在解决测量传感器精度低的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供了一种气浴装置装置,包括壳体、进气接口、温控介质通道、出风口,所述进气接口、所述出风口设置于所述壳体上,所述温控介质通道设置于所述壳体内,所述温控介质通道内用于通入流体的温控介质,气体由所述进气接口进入,与所述温控介质通过所述温控介质通道进行交换热量后由所述出风口吹出。
本发明进一步设置为,所述进气口用于通入压缩空气。
本发明进一步设置为,还包括有多孔介质,所述多孔介质与所述温控介质通道外壁相接。
本发明进一步设置为,所述多孔介质设置于所述温控介质通道与所述壳体之间。
本发明进一步设置为,所述多孔介质由若干晶格状结构组成。
本发明进一步设置为,所述出气口设置有多个。
本发明进一步设置为,所述出气口处设置有若干个多孔板,所述多孔板用于均匀气流。
本发明进一步设置为,位于所述出气口处的所述壳体上设置有用于对气流进行导向的导风栅。
本发明进一步设置为,所述导风栅上设置有加热片。
本发明进一步设置为,所述导风栅上设置有用于调节所述导风栅的角度调节机构。
本发明进一步设置为,所述导风栅所在的平面与所述多孔板所在的平面之间的夹角为5°~90°。
本发明进一步设置为,所述导风栅的长度为10mm~20mm,相邻所述导风栅之间的距离为5mm~10mm。
本发明进一步设置为,所述温控介质通道为蛇形结构。
一种气浴装置的制备方法,包括有上任一项所述的温控介质通道和多孔介质,所述温控介质通道和所述多孔介质均由3D打印制成。
本发明进一步设置为,所述温控介质通道与所述多孔介质由3D打印成一体。
本发明进一步设置为,所述多孔介质的孔径为1mm。
一种光刻设备,包括有上所述的气浴装置。
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