[发明专利]光波导偏振分离器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710971625.6 申请日: 2017-10-18
公开(公告)号: CN107561646B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 布兰特·埃弗雷特·李特尔 申请(专利权)人: 西安奇芯光电科技有限公司
主分类号: G02B6/27 分类号: G02B6/27;G02B6/126;G02B6/122
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 汪海艳
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 波导 偏振 分离器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光波导偏振分离器,其特征在于:

包括至少三根光波导,每个光波导均具有一个输入端口与一个输出端口,相邻光波导之间具有间隙通过倏逝波耦合;

其中至少一根光波导为输入光波导,其余光波导为输出光波导;

输入光波导输入端口位于输入平面,偏振光通过输入平面输入到输入光波导中;

输出光波导的输出端口位于输出平面;其中至少一根输出光波导支持TE偏振模式,输出TE偏振模式;至少一根输出光波导支持TM偏振模式,输出TM偏振模式;

输入平面与输出平面之间的区域为绝热渐变区域。

2.根据权利要求1所述的光波导偏振分离器,其特征在于:

所述输入光波导的宽度沿偏振光传播方向从大变小,所述输出光波导的宽度沿偏振光传播方向从小变大;

定义偏振光传播方向即光波导的长度方向为Z方向,X方向为光波导的宽度方向且XZ平面与纸面平行,Y方向即为光波导的厚度方向。

3.根据权利要求2所述的光波导偏振分离器,其特征在于:输入光波导的宽度沿偏振光传播方向线性变小,且能够变化至任意小;

输出光波导的宽度沿偏振光传播方向从任意小线性变大。

4.根据权利要求2或3所述的光波导偏振分离器,其特征在于:输入光波导和/或输出光波导的厚度沿偏振光传播方向线性变小或变大;光波导间的间隙沿偏振光传播方向线性变大或变小。

5.根据权利要求1或2所述的光波导偏振分离器,其特征在于:输入光波导和输出光波导均包括芯层及包围芯层和填充间隙的包层,芯层的折射率大于包层的折射率。

6.根据权利要求5所述的光波导偏振分离器,其特征在于:光波导芯层材料包括硅、氮化硅、碳化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、掺锗二氧化硅、磷化铟合金、砷化镓合金或有机聚合物;

包层材料包括二氧化硅、低折射率的氮氧化硅、低折射率的碳氧化硅、低折射率掺锗或掺磷二氧化硅、低折射率聚合物、低折射率磷化铟或砷化镓合金。

7.根据权利要求5所述的光波导偏振分离器,其特征在于:输入光波导和输出光波导的输入端口与输入平面位于一个平面上,输入光波导和输出光波导的输出端口与输出平面位于一个平面上;或输入光波导的输入端口位于输入平面,输出光波导的输出端口位于输出平面上,输出光波导的输入端口与输入平面不共面,输入光波导的输出端口与输出平面不共面。

8.根据权利要求7所述的光波导偏振分离器,其特征在于:三个光波导位于同一平面内,或输入光波导与输出光波导分别位于不同的平面内,输入光波导和输出光波导垂直耦合。

9.一种制造权利要求7-8任一所述的光波导偏振分离器的方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一:通过常规方法制造基础光波导;

步骤二:对光波导沉积包层材料之后作平坦化处理;

步骤三:然后在平坦化的光波导上涂覆光刻胶;

步骤四:在光刻胶上开设具体需要的图案;

步骤五:将暴露的图案区域刻蚀至所需深度。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于:步骤五之后还包括将包层材料重新沉积在整个光波导结构上的步骤。

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