[发明专利]基于编码芯片的微阵列、其制备方法及应用

权利要求书

1.一种基于编码芯片的微阵列的制备方法，其特征在于包括：

提供载体，所述载体具有至少一流体容置腔，所述流体容置腔中分布有至少一承载面；

在所述承载面上均匀覆设粘接剂；

于所述流体容置腔中加入选定流体，直至所述承载面被所述选定流体浸没；

使分散在所述选定流体内的复数个编码微芯片离散沉积到所述承载面上，并与分布在所述承载面上的粘接剂结合；

使所述粘接剂固化，从而将所述复数个编码微芯片固定在所述承载面上，形成编码微芯片的微阵列。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述选定流体是通过将复数个编码微芯片均匀分散于溶剂内形成的编码微芯片的悬浮液。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述溶剂包括水和/或有机溶剂。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述溶剂选自水或缓冲溶液。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于具体包括：

将选定流体加入所述流体容置腔，直至所述承载面被所述选定流体浸没；

将复数个编码微芯片分散到所述选定流体内，并使复数个编码微芯片离散沉积到所述承载面上，且与分布在所述承载面上的粘接剂结合；

使所述粘接剂固化，从而将复数个编码微芯片固定在所述承载面上，形成编码微芯片的微阵列。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述选定流体包括水和/或有机溶剂。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述溶剂选自水或缓冲溶液

8.根据权利要求1-7中任一项所述的制备方法，其特征在于包括：使分散在所述选定流体内的编码微芯片在重力场、外加磁场、外加电场中任一者或两者以上的组合的作用下沉积到所述承载面上，并与分布在所述承载面上的粘接剂结合。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于包括：使分散在所述选定流体内的编码微芯片在自身重力作用下沉积到所述承载面上，并与分布在所述承载面上的粘接剂结合；其中所述编码微芯片的密度大于所述选定流体的密度。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述承载面为曲面或平整面。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于：所述承载面为平整面。

12.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述编码微芯片以平躺的姿态分布在所述承载面上。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于：所述承载面为水平承载面。

14.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于包括：将流体状的粘接剂施加在所述承载面上，使所述粘接剂在所述承载面上自然铺展形成平面状。

15.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于包括：将流体状的粘接剂均匀涂布在所述承载面上。

16.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述承载面为所述流体容置腔的底端面。

17.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述载体包括多孔板、微孔板、基于微流体的装置或者类似表面皿的容器。

18.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述编码微芯片包括具有光学识别码的基底。