[发明专利]透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法

权利要求书

1.一种透明导电性薄膜，包括：

基材，包括相对设置的第一表面及第二表面；

依次形成于所述第一表面的第一硬涂层、第一透明导电层及第一金属层；

依次形成于所述第二表面的第二硬涂层、第二透明导电层及第二金属层；

其特征在于，所述第一硬涂层和/或所述第二硬涂层表面形成有非平整结构，所述第一金属层和/或所述第二金属层与所述非平整结构对应位置的表面形成有表面压花结构；

其中，所述非平整结构部分覆盖所述第一硬涂层和/或所述第二硬涂层的表面，所述表面压花结构呈长条形并沿所述透明导电性薄膜的长度方向延伸。

2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述表面压花结构为多个且间隔设置，多个所述表面压花结构分别位于所述第一金属层和/或所述第二金属层相对两侧的边缘及所述相对两侧的边缘之间的区域。

3.根据权利要求2所述的透明导电性薄膜，其特征在于，多个所述表面压花结构相互平行。

4.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述表面压花结构的宽度为5至50mm。

5.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述表面压花结构包括多个间隔分布的凸起，且所述凸起的高度为0.05至2μm。

6.根据权利要求5所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述凸起的分布密度为1至1000个/mm²。

7.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述基材为聚环烯烃或聚碳酸酯或聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。

8.一种透明导电性薄膜，包括：

基材，包括相对设置的第一表面及第二表面；

依次形成于所述第一表面的第一硬涂层、第一光学层、第一透明导电层及第一金属层；

依次形成于所述第二表面的第二硬涂层、第二光学层、第二透明导电层及第二金属层；

其特征在于，所述第一光学层和/或所述第二光学层表面形成有非平整结构，所述第一金属层和/或所述第二金属层与所述非平整结构对应位置的表面形成有表面压花结构；

其中，所述非平整结构部分覆盖所述第一光学层和/或所述第二光学层的表面，所述表面压花结构呈长条形并沿所述透明导电性薄膜的长度方向延伸。

9.一种触控屏，其特征在于，所述触控屏由上述权利要求1至8任一项所述的透明导电性薄膜所制成，所述触控屏包括触控区及引线区，所述第一金属层及所述第二金属层位于所述引线区；所述触控区包括由所述第一透明导电层蚀刻而成的第一电极、及由第二透明导电层蚀刻而成的第二电极；所述引线区包括由所述第一金属层及位于所述引线区的第一透明导电层被蚀刻形成的第一引线，及由所述第二金属层及位于所述引线区的第二透明导电层被蚀刻形成的第二引线。

10.一种触控屏的制备方法，其特征在于，包括步骤：

提供一种如上述权利要求1至8任一项所述的透明导电性薄膜；

蚀刻所述第一金属层和所述第二金属层，以露出触控区的第一透明导电层和第二透明导电层，并形成位于引线区的金属引线图案；

蚀刻所述第一透明导电层和所述第二透明导电层，以形成位于触控区的第一电极和第二电极，并形成位于引线区的透明引线图案，所述金属引线图案与所述透明引线图案共同构成电极引线。