[发明专利]分析试片及其制备方法与材料分析的方法

权利要求书

1.一种分析试片，其特征在于，包括：

待测物，其中所述待测物为锥体，所述待测物的底部接着于载座上，所述待测物包括多个特征结构，所述多个特征结构沿着所述待测物的长轴排列。

2.如权利要求1所述的分析试片，其特征在于，所述待测物的高宽比的范围为0.2至30。

3.如权利要求1所述的分析试片，其特征在于，所述待测物的底部具有导角。

4.如权利要求1所述的分析试片，其特征在于，所述多个特征结构包括至少一部分的场效晶体管、存储器组件、无源组件或其组合。

5.如权利要求4所述的分析试片，其特征在于，所述多个特征结构的其中之一包括所述场效晶体管的通道结构、漏极与源极结构、栅极结构或其组合。

6.一种分析试片的制备方法，其特征在于，包括：

移除部分的分析样品，以在所述分析样品的表面形成柱体，其中所述柱体具有连接部，所述连接部连接于所述分析样品的主体；

将探针接着至所述柱体的所述连接部以外的部分；

使所述柱体自所述分析样品的主体分离；

旋转接着于所述柱体的所述探针，以使旋转后的所述柱体的长轴平行于载座的顶面的法线方向；

使旋转后的所述柱体接着于所述载座的顶面上；

使所述柱体与所述探针分离；以及

移除部分的所述柱体，以形成待测物，其中所述待测物为锥体，所述待测物的底部接着于所述载座上。

7.如权利要求6所述的分析试片的制备方法，其特征在于，进行移除部分的所述分析样品的步骤、切开所述连接部的步骤、使所述探针自所述柱体分离的步骤或移除部分的所述柱体的步骤包括使用聚焦离子束。

8.如权利要求6所述的分析试片的制备方法，其特征在于，所述柱体的形状包括三角柱。

9.如权利要求6所述的分析试片的制备方法，其特征在于，所述柱体包括所述分析样品中的多个特征结构，所述多个特征结构沿着所述柱体的长轴排列。

10.如权利要求6所述的分析试片的制备方法，其特征在于，在使旋转后的所述柱体接著于所述载座的顶面之前，更包括在所述柱体的靠近所述载座的底部形成导角。

11.如权利要求10所述的分析试片的制备方法，其特征在于，所述待测物的底部具有导角。

12.一种材料分析的方法，其特征在于，包括：

提供分析试片，其中所述分析试片包括待测物，所述待测物为锥体，所述待测物的底部接着于载座上，所述待测物包括多个特征结构，所述多个特征结构沿着所述待测物的长轴排列；以及

对所述待测物施加脉冲能量，使所述待测物的表面的原子离子化，并使所形成的离子行进至探测器，并藉由探测结果推算所述原子在所述待测物的表面的位置以及所述原子的成分。

13.如权利要求12所述的材料分析的方法，其特征在于，进一步包括：重复进行对所述待测物施加脉冲能量的步骤，以使所述待测物的不同深度的原子离子化，并使所形成的离子行进至所述探测器。