[发明专利]一种新型增透膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种新型增透膜，本发明还涉及这种增透膜的制备方法，属于面板领域。

背景技术

科技日新月益，时代进步几乎人手一支手机，面板触碰技术衍进由电阻式进步到电容式。基板材料由强化玻璃升级到复合聚酯基板。

聚酯基板上功能抗眩光涂层，主要材料为纳米无机氧化物(例如TiO₂复合粒子)、聚合物微分散在聚氨酯丙酸酯树脂、环氧丙烯酸酯树脂、丙烯酸活性单体和光敏引发剂组成的光聚合体系，透过调节聚物树脂和光引发剂控制膜层机械性质，达膜聚酯基板上具抗眩光效果。

从界面处开始崩坏脱落及黄变造成质量异常及增透效果变差，并且在生产过程中的良率也常常无法达标。以上聚酯基板表面的功能涂层与增透膜层问题，一直困扰着业界生产良率及质量，3C产品需求规格愈来愈高，良率及质量一直是业界生产中不断改善优化追求的目标。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新型增透膜及其制备方法，以解决上述问题。

本发明采用了如下技术方案：

一种新型增透膜，其特征在于，包括：高分子层，陶瓷氧化物层，以及匹配层，匹配层位于高分子层和陶瓷氧化物层之间。

进一步，本发明的新型增透膜，还可以具有这样的特征：其中，匹配层由金属氧化物中添加占其质量比为6～10％介电氧化物镧系材料，经真空镀膜，形成在高分子层上。

进一步，本发明的新型增透膜，还可以具有这样的特征：其中，金属氧化物为Al₂O₃。

进一步，本发明的新型增透膜，还可以具有这样的特征：其中，介电氧化物镧系材料为La₂Ti₂O₇。

本发明还提供一种制备如权利要求1的新型增透膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一：在金属氧化物材料中添加6～10％介电氧化物镧系材料加热，使之均匀分散；

步骤二：金属氧化物材料以定速率3～4A/S稳定沉积厚度30～50nm，在涂层高分子系形成匹配层；

步骤三：在匹配层上制备陶瓷氧化物层。

进一步，本发明的制备方法，还可以具有这样的特征：步骤一中，金属氧化物材料为Al₂O₃。

进一步，本发明的制备方法，还可以具有这样的特征：步骤一中，介电氧化物镧系材料为La₂Ti₂O₇。

进一步，本发明的制备方法，还可以具有这样的特征：步骤一中，以电子束加热Al2O3和镧系材料。

进一步，本发明的制备方法，还可以具有这样的特征：步骤二中，匹配层沉积过程中加入离子源辅助轰击。

发明的有益效果

本发明的新型增透膜，可使单面反射率由4.2％降到1.0％以下，整体增透效果增加3％，并解决高分子层与陶瓷氧化物层经耐候测试而造成膜层脱落及黄变的生产品质不良问题。

附图说明

图1是氧化混合物的电子束电流条件。

图2是La₂Ti₂O₇不同添加比例对折射率的影响。

具体实施方式

以下结合附图来说明本发明的具体实施方式。

<实施例一>

本实施方式的新型增透膜，结构如下：包括一层聚酯基板，一层陶瓷氧化物，以及夹在聚酯基板和陶瓷氧化物之间的匹配层。匹配层是由Al₂O₃中添加占其质量的6～10％的La₂Ti₂O₇形成混合物，以435～475mA的电子束加热，达到混合物熔点约1850～2100℃，使之均匀分散，再将混合后氧化物材料以定速率3～4A/S的方式稳定沉积厚度30～50nm在聚酯基板上形成匹配层。

<实施例二>

新型增透膜的制备过程如下：

步骤一：在Al₂O₃中添加占其质量6％的La₂Ti₂O₇材料，以435～475mA电子束加热到混合物的熔点，使之均匀分散，形成金属氧化物混合物；