[发明专利]光阻烘烤设备在审
申请号: | 201710779911.2 | 申请日: | 2017-09-01 |
公开(公告)号: | CN107362953A | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
发明(设计)人: | 陈仲仁;林明文;蔡在秉;李彦泽;伍池林;吴智坤 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | B05D3/04 | 分类号: | B05D3/04 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人: | 孙伟峰,顾楠楠 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烘烤 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种液晶面板技术,特别是一种光阻烘烤设备。
背景技术
液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用,如:移动电话、个人数字助理、数码相机等,现有的液晶面板制作过程中,形成某一膜层时,通常需要经过涂布、曝光、显影工艺形成光阻图案,其中在光阻涂布之后,还需要通过抽真空单元抽出PR中的部分溶剂(Solvent),再经过烘烤设备对其进行干燥和固化,去除经VCD环节后PR中残留的溶剂,以增强PR与基板的粘着性,从而达到更好的显影效果。
烘烤设备在加热过程中,目前业界内主要是通过热风或者红外线辐射加热基板,烘烤设备的烘烤腔体内的温度通常在90-120度之间,加热固化光阻同时会使光阻中的溶剂挥发,在采用热风的加热方式时,由于热风在进入烘烤腔体后与烘烤腔体内的温度接触,从而使烘烤腔体内出现两种温度,位于进风口处的温度会高于出风口处的问题,导致上盖以及烘烤腔体内会出现光阻挥发物受较低温度的影响冷凝后滴落在基板上,从而造成基板污染。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明提供一种光阻烘烤设备,降低烘烤腔体内温度的差异,从而避免因温度下降造成冷凝后滴落在基板上,影响产品品质。
本发明提供了一种光阻烘烤设备,该设备包括烘烤腔体,所述烘烤腔体上分别设有进风口以及出风口,所述烘烤腔体上设有与其密封连接的上盖,所述上盖用于对进入烘烤腔体内的热风进行导向,所述上盖上设有用于保持热风温度的加热装置。
进一步地,所述加热装置为设于上盖上的电阻线圈。
进一步地,所述加热装置为PTC加热板。
进一步地,所述加热装置设置在上盖靠近出风口的一侧。
进一步地,所述加热装置设于上盖背离烘烤腔体的一侧表面上。
进一步地,所述进风口和出风口分别设置在烘烤腔体相对的两侧上。
进一步地,所述烘烤腔体内位于进风口上设有用于将热风朝上盖方向引导的第一导流通道,所述第一导流通道的进口与进风口密封连接,出口与上盖相对。
进一步地,所烘烤腔体内位于出风口上设有用于对热风进行回收的第二导流通道,所述第二导流通道的进口与上盖相对,出口与出风口密封连接。
进一步地,所述设备还包括以热量回收装置,所述热量回收装置经管道与出风口连接。
进一步地,所述设备还包括热风发生装置,所述热风发生装置经管道与进风口连接。
本发明与现有技术相比,通过在上盖上设置加热装置,从而使吹向上盖的热风能够被加热,并使流向出风口时,热风的温度始终保持一致,从而避免光阻挥发物在接触到上盖后由于温度的改变导致冷凝滴落,影响产品的的品质,而且也保证了烘烤腔体中温度的均一性。
附图说明
图1是本发明光阻烘烤设别的结构示意图;
图2是本发明加热装置设置位置的结构示意图;
图3是本发明加热装置的第一种设置方式的结构示意图;
图4是本发明加热装置的第二种设置方式的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
如图1所示,本发明公开了一种光阻烘烤设备该设备包括烘烤腔体1,烘烤腔体1的大小根据实际情况设置,在此不做限定;在烘烤腔体1的上端设置有一上盖11,上盖11与烘烤腔体1之间采用密封连接;在烘烤腔体1上分别设有进风口2以及出风口3,进风口2经管道与热风发生装置6连接,从而将热风发生装置6所产生的热风送入烘烤腔体1中,出风口3经管道与排气装置5连接,这里需要注意的是,热风发生装置6以及排气装置5均为烘烤设备的常规部件,在此不作具体限定;进风口2和出风口3分别设置在烘烤腔体1相对的两侧上;所述烘烤腔体1内位于进风口2上设有用于将热风朝上盖11方向引导的第一导流通道21,所述第一导流通道21的进口与进风口2密封连接,出口与上盖11相对;所烘烤腔体1内位于出风口3上设有用于对热风进行回收的第二导流通道31,所述第二导流通道31的进口与上盖11相对,出口与出风口3密封连接。
本发明通过上盖11将热风导向,使热风从上盖11位于第一导流通道21的一端朝位于第二导流通道31的一端方向流去,这样能够保持烘烤腔体1内的温度。
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