[发明专利]线宽测量装置及方法

说明书

本发明提供了一种线宽测量装置和方法，通过获取所述标准基准板的图像在预设灰度值下对应的所述光源的第一电压、所述底座的光强分布、所述检测标记的光强分布和所述标准基准板的光强分布计算得出所述光源的第二电压，使所述第一检测单元形成的图像的对比度满足控制要求；调整所述光源的电压为所述第二电压，所述线宽测量装置在光源电压为第二电压时测量所述检测标记的线宽，可以有效避免由于光源的光强导致图像过明或过暗，使线宽测量装置无法正确测量线宽的问题，并且，本发明提供的调整光源的方法不需要人工干预，可以快速有效的寻找到最佳的光源光强，使测量效率大大提高。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种线宽测量装置及方法。

背景技术

线宽测量装置是对基片(例如LCD(Liquid Crystal Display：液晶显示器)基片)的TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)或者半导体的掩模图形宽度、图形间隔等进行测量的装置，其也可以被称为尺寸测量装置。线宽测量装置进行线宽测量的主要原理是对形成在透明玻璃基片上的薄膜图形照射照明而取得的图形图像用显微镜进行放大，用CCD(Charge Coupled Device：电荷耦合器件)相机对该图像摄像而取得的图形图像进行图像处理，对尺寸和形状进行测量。

但现有的线宽测量装置对线宽进行测量时，其图像的比对度值直接影响线宽检测标记两侧边缘的检测，即过饱和及过暗都会导致线宽检测标记两侧边缘无法正确检测。

发明内容

本发明的目的在于提供一种线宽测量装置及方法，以解决现有技术中对线宽进行测量时，过饱和及过暗都导致线宽检测标记两侧边缘的无法正确检测等问题。

为了达到上述目的，本发明提供了一种线宽测量装置，所述线宽测量装置包括光源、第一光路、第二光路、第三光路、第四光路、第一检测单元及第二检测单元；其中，

所述光源发出的检测光经过所述第一光路后照射到一检测对象上形成第一信号光，所述第一光信号经过所述第二光路后照射到所述第一检测单元，所述第一检测单元根据所述第一信号光得到所述检测对象的图像；

所述光源发出的检测光经过所述第三光路后照射到所述检测对象上形成第二信号光，所述第二信号光经过所述第四光路后照射到所述第二检测单元，所述第二检测单元根据所述第二信号光得到所述检测对象的光强分布；

可选的，所述第一光路上依次设置有第一镜组、第一透反棱镜和第二镜组，所述光源发出的检测光至所述第一镜组后形成平行的检测光，再由所述第一透反棱镜将所述平行的检测光反射至所述第二镜组，所述第二镜组将所述平行的检测光汇聚到所述检测对象上形成第一信号光；

可选的，所述第二光路上依次设置有第二镜组、第一透反棱镜和第三镜组，所述第一信号光经过所述第二镜组以形成平行的第一信号光，再由所述第一透反棱镜将所述平行的第一信号光透射至所述第三镜组，所述第三镜组将所述平行的第一信号光汇聚至所述第一检测单元，所述第一检测单元根据所述第一信号光得到所述检测对象的图像；

可选的，所述第三光路上依次设置有第四镜组、第二透反棱镜和第五镜组，所述光源发出的检测光至所述第四镜组后形成平行的检测光，再由所述第二透反棱镜将所述平行的检测光反射至所述第五镜组，所述第五镜组将所述平行的检测光汇聚到所述检测对象上形成第二信号光；

可选的，所述第四光路上依次设置有第五镜组和第二透反棱镜，所述第二信号光经过所述第五镜组以形成平行的第二信号光，再由所述第二透反棱镜将所述平行的第二信号光透射至所述第二检测单元，所述第二检测单元根据所述第二信号光得到所述检测对象的光强分布；