[发明专利]基板处理方法

说明书

本发明提供一种能缩短形成低表面张力液体的液膜所需的时间并良好地排除液膜的基板处理方法。该方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；处理液供给工序，向基板供给包含水的处理液；基板旋转工序，使基板旋转；液膜形成工序，使基板以第一旋转速度旋转且向上表面供给表面张力低于水的低表面张力液体，使处理液置换为低表面张力液体，在上表面形成低表面张力液体的液膜；旋转减速工序，在处理液被置换为低表面张力液体后，继续进行液膜形成工序且使旋转减速到低于第一旋转速度的第二旋转速度；开口形成工序，在液膜形成工序结束后，在以第二旋转速度旋转的基板上的液膜的中央区域形成开口；液膜排除工序，使开口扩展，从上表面排除液膜。

技术领域

本发明涉及处理基板的基板处理方法。成为处理对象的基板例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED(Field Emission Display：场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。

背景技术

在利用逐张地处理基板的单张式基板处理装置的基板处理中，例如，向由旋转卡盘保持为大致水平的基板供给药液。之后，向基板供给冲洗液，由此，基板上的药液被置换成冲洗液。之后，进行用于排除基板上的冲洗液的旋转脱水工序。

如图10所示，在基板的表面形成有细微的图案的情况下，由于在旋转脱水工序中不能去除进入到图案内部的冲洗液，因此存在产生干燥不良的担忧。进入到图案内部的冲洗液的液面(空气与液体之间的界面)形成于图案的内部。因此，在液面和图案之间的接触位置产生液体的表面张力。在该表面张力大的情况下，容易引起图案的倒塌。作为典型的冲洗液的水的表面张力大。因此，不能忽视旋转脱水工序中的图案倒塌。

于是，能够考虑到如下情况：供给低于水的表面张力的低表面张力液体的异丙醇(Isopropyl Alcohol：IPA)，用IPA置换进入了图案内部的水，之后通过去除IPA来使基板的上表面干燥。

日本特开2010-177371号公报记载的基板处理中，在基板上形成水的液膜后用IPA置换水的液膜。之后，通过喷射氮气在IPA的液膜的中央部形成孔，因此液膜呈环状。然后，通过基板的旋转向基板上的IPA作用有离心力使环状的液膜的内径变大，从而使IPA的液膜被挤出基板外。由此，从基板上去除IPA。

该基板处理中，用IPA置换水的液膜时，按照10rpm、50rpm、75rpm、100rpm、500rpm的顺序使基板的旋转阶段性地加速，之后，使基板的旋转速度维持在500rpm。然后，将IPA的液膜做成环状使液膜的内径变大时，基板的旋转速度变更为700rpm。

日本特开2010-177371号公报的基板处理中，用IPA置换水的液膜时，使基板的旋转阶段性地加速。因此，存在到用IPA置换水的液膜为止需要长时间，从而生产性下降的问题。此外，从基板上挤出IPA的液膜时，使基板的旋转进一步加速。因此，由于作用有增大的离心力，因此基板的上表面的IPA的液膜分裂，并在基板的上表面的局部残留IPA的液滴。IPA(包括含有溶入到IPA的微量的水分的情况)的液面对图案持续地作用有表面张力，直到该液滴最终蒸发为止。因此，有可能引起图案的倒塌。

发明内容

因此，本发明的一个目的在于，提供一种能够缩短形成低表面张力液体的液膜所需的时间，并且，良好地排除该液膜的基板处理方法。