[发明专利]彩色滤光板及其制造方法、显示面板、显示器、存储介质

说明书

技术领域

本发明涉及显示器领域，具体地涉及彩色滤光板及制造彩色滤光板的方法、显示面板、显示器、存储介质。

背景技术

随着半导体技术的演进，也带动了平板显示器的发展，在众多类型的平板显示器中，液晶显示器因低空间占有率、低功耗、低辐射以及低电磁干扰而逐渐成为市场的主流。液晶显示器包括TFT(Thin Film Transistor)板以及CF(Colour Filter，彩色滤光)板，TFT板和CF板之间注入有液晶，TFT板上形成有控制液晶偏转的薄膜晶体管回路，CF板上形成有红(R)、绿(G)、蓝(B)滤光结构以及其它结构。

液晶显示器的液晶驱动方式主要有TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)和IPS(In-Plane Switching，共面转换型)等技术，上述两者对应的CF板在结构上有所不同。其中IPS技术用的CF(Color Filter，彩色滤光)板中，PS(Photo Spacer，感光间隙子)光阻膜层因其下层有R、G、B三原色光阻膜层。但是因透光性需要或工艺控制等原因，R、G、B三原色光阻膜层的膜厚度可能会不均一，而PS层在涂布时，是以湿膜形态涂布的，由此，PS涂布后无法有效控制湿膜的流动性，从而会导致PS光阻膜厚均匀性差；而PS膜厚又决定了CF基板和TFT基板之间单元间隙(Cell Gap)。因此，PS膜厚均匀度直接影响单元间隙的均一性。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种彩色滤光板及制造彩色滤光板的方法、显示面板、显示器、存储介质，该彩色滤光板及制造彩色滤光板的方法能够显著提高间隔结构厚度的均一性，从而提高显示面板和显示器的品质。

为了实现上述目的，本发明实施例提供一种用于显示面板的彩色滤光板，该彩色滤光板包括：透明衬底；透明导电层，形成于所述透明衬底的一表面上；像素单元，形成于所述透明导电层上；透明保护膜，该透明保护膜覆盖所述像素单元；黑色矩阵，形成于所述透明衬底的另一表面上；以及间隔结构，形成于所述黑色矩阵上。

其中，所述透明导电层上可以形成有标识，所述像素单元和所述黑色矩阵根据所述标识被形成。

其中，所述透明保护膜的硬度优选为4H以上，并且所述透明保护膜的透过率优选为90％以上。

其中，所述透明衬底优选为玻璃基板。

其中，所述像素单元包括R(Red，红色)光阻膜、G(Green，绿色)光阻膜、B(Blue，蓝色)光阻膜，并且所述黑色矩阵优选地形成于所述R光阻膜与所述G光阻膜相临的位置、所述G光阻膜与所述B光阻膜相临的位置以及所述B光阻膜与所述R光阻膜相临的位置。

根据本发明的另一方面，还提供一种制造彩色滤光板的方法，该彩色滤光板用于显示面板，该方法包括：在透明衬底的一表面形成透明导电层；在所述透明电极上形成像素单元；形成透明保护膜，所述透明保护膜覆盖所述像素单元；在所述透明衬底的另一表面形成黑色矩阵；以及在所述黑色矩阵上形成间隔结构。

其中，该方法还包括：在所述透明导电层上形成标识，其中所述像素单元和所述黑色矩阵根据所述标识被形成。

其中，所述透明保护膜的硬度优选为4H以上，并且所述透明保护膜的透过率优选为90％以上。

其中，所述透明衬底优选为玻璃基板。

其中，所述像素单元包括R(Red，红色)光阻膜、G(Green，绿色)光阻膜、B(Blue，蓝色)光阻膜，并且所述黑色矩阵优选地形成于所述R光阻膜与所述G光阻膜相临的位置、所述G光阻膜与所述B光阻膜相临的位置以及所述B光阻膜与所述R光阻膜相临的位置。

根据本发明的另一方面，还提供一种显示面板，该显示面板包括上述彩色滤光板。

根据本发明的再一方面，还提供一种显示器，该显示器包括所述的显示面板。

根据本发明的再一方面，还提供一种机器可读存储介质，该机器可读存储介质上存储有指令，该指令用于使得机器执行上述内容中所述制造彩色滤光板的方法。

通过上述技术方案，将像素单元和间隔结构形成在透明衬底的不同面上，间隔结构的下面只有黑色矩阵，因而显著降低了前工序对间隔结构均一性的影响，从而显著提高了间隔结构高度(或厚度)的均一性，并降低了间隔结构形成工艺的控制难度，提高了生产效率。此外，基于上述优点，在生产显示面板时，在压合TFT板和CF板的过程中，能够有效保证单元间隙的均一度，从而提高了显示面板的品质，进而能够提高显示器的画质。

本发明实施例的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明