[发明专利]排气设备和使用其的衬底处理设备有效
申请号: | 201710738549.4 | 申请日: | 2017-08-24 |
公开(公告)号: | CN107785221B | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 李学周;金大渊;金承煜;朴珍石;金材玹 | 申请(专利权)人: | ASM知识产权私人控股有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 荷兰阿尔梅勒佛*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 排气 设备 使用 衬底 处理 | ||
1.一种排气设备,包括:
第一区域;
连接到所述第一区域的第二区域;
连接到所述第一区域的第三区域;
连接到所述第二区域的第一气体管线,
其中当将气体供应到所述第一气体管线时,所述第一区域不与所述第二区域连通,但与所述第三区域连通;以及
放置于所述第二区域中的第一气体供应环,
其中所述第一气体供应环包括连接到所述第一气体管线的至少一个孔洞。
2.根据权利要求1所述的排气设备,还包括连接到所述第三区域的第二气体管线,
其中当将气体供应到所述第二气体管线时,所述第一区域不与所述第三区域连通,但与所述第二区域连通。
3.根据权利要求2所述的排气设备,其中所述第一气体管线与所述第二气体管线相互连接。
4.根据权利要求1所述的排气设备,还包括连接到所述第二区域的旁路管线。
5.根据权利要求4所述的排气设备,还包括放置于所述第二区域中的第一气体供应环,
其中所述第一气体供应环包括:
连接到所述第一气体管线的第一孔洞;以及
连接到所述旁路管线的第二孔洞。
6.根据权利要求5所述的排气设备,其中所述第一孔洞位于所述第二孔洞与所述第一区域之间。
7.根据权利要求6所述的排气设备,其中当将气体供应到所述第一气体管线时,将来自所述第一区域的气体排放到所述第三区域,且将来自所述旁路管线的气体排放到所述第二区域。
8.根据权利要求7所述的排气设备,其中通过所述第一气体管线供应的气体不与通过所述旁路管线供应的气体反应。
9.根据权利要求2所述的排气设备,其中所述第一气体管线包括第一打开/关闭单元,
所述第二气体管线包括第二打开/关闭单元,且
所述排气设备还包括被配置以控制所述第一和第二打开/闭合单元的控制器。
10.根据权利要求9所述的排气设备,还包括连接到所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域中的至少一个的气体分析单元,
其中所述控制器与所述气体分析单元连通且确定所述第一和第二打开/闭合单元的操作时机。
11.一种排气设备,包括:
主排气管线;
上部板;
主体;
至少一个气体供应环;
下部板;
第一子排气管线;
第二子排气管线;以及
至少一个冲洗气体供应路径,其穿透所述主体且连接到所述气体供应环。
12.根据权利要求11所述的排气设备,其中从所述主排气管线分叉的至少一个排气路径形成于所述主体中,且所述排气路径与所述第一子排气管线和所述第二子排气管线连接。
13.根据权利要求12所述的排气设备,其中所述气体供应环位于所述排气路径与所述第一子排气管线之间或所述排气路径与所述第二子排气管线之间。
14.根据权利要求13所述的排气设备,还包括至少一个旁路气体供应路径,其穿透所述主体且连接到所述气体供应环。
15.根据权利要求14所述的排气设备,其中所述气体供应环包括在其侧面的至少一个气体孔洞,
其中所述至少一个气体孔洞包括:
连接到所述冲洗气体供应路径的上部孔洞;以及
连接到所述旁路气体供应路径的下部孔洞,
其中所述排气设备还包括在所述上部孔洞与所述下部孔洞之间的密封措施。
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