[发明专利]彩膜基板、其制备方法、显示装置及显示方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

第一基板；

位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极，所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行；所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光；

覆盖所述滤色单元和电极的第二基板；

所述滤色单元包括：

压电材料层和形成于所述压电材料层上的液晶层；所述液晶层包括液晶弹性体，所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述液晶层由10～70wt％的液晶弹性体、4～86.99wt％的小分子液晶、3～25wt％的光可聚合单体和0.01～1wt％的光引发剂经聚合而成。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述小分子液晶为SLC1717，或者为DIC0773，或者为Merck1284；

所述光可聚合单体为或者

所述光引发剂为

所述液晶弹性体为

其中为或者为或者

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

黑矩阵图形，所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域，所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵图形位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面，所述黑矩阵表面设置有平坦层；

或者

所述黑矩阵图形与所述滤色单元位于所述第一基板的同一侧表面。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述液晶层的厚度为

7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述压电材料层由石英或铌酸锂制备得到。

8.根据权利要求1～7任意一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

黑矩阵图形；

位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上的隔垫物，所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。

9.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供第一基板；

在所述第一基板上形成多个滤色单元；

在所述滤色单元相对的两侧形成电极，所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行；所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光；

形成覆盖所述滤色单元和电极的第二基板；

所述滤色单元的制备方法为：

在所述第一基板上形成压电材料层；所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行；

在所述压电材料层上形成液晶层；所述液晶层包括液晶弹性体。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括形成黑矩阵图形，所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域，所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。

11.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述液晶层的制备方法为：

将10～70wt％的液晶弹性体、4～86.99wt％的小分子液晶、3～25wt％的光可聚合单体和0.01～1wt％的光引发剂均匀混合，涂覆于所述压电材料层上，经过曝光、显影以及成型，形成液晶层。

12.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

形成黑矩阵图形；

在所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上形成隔垫物，所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。