[发明专利]以高熵液态合金靶材制作的手机镀膜在审
申请号: | 201710666237.7 | 申请日: | 2017-08-07 |
公开(公告)号: | CN109385610A | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 陈冠维 | 申请(专利权)人: | 态金材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/20 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 张秋越 |
地址: | 中国台湾台南市安*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 手机 液态合金 靶材 镀膜 高熵 附着力 抗氧化能力 高硬度 抗腐蚀 底材 溅镀 良率 制作 高产 | ||
本发明公开了一种以高熵液态合金(High Entropy Liquid Metal Alloy)靶材溅镀于手机上以制作成手机镀膜,具有高硬度、极强的抗腐蚀及抗氧化能力,且与其底材有良好的附着力,并拥有超高的镀率、高产能与高良率。
技术领域
本发明是关于一种手机镀膜,尤其是指一种以高熵液态合金靶材镀着于手机上的手机镀膜。
背景技术
现有的手机上的金属膜层镀膜遭遇到耐候性与耐刮性的问题。一般强调耐候性佳的手机金属膜则不耐刮擦;而耐刮性好的金属膜则耐候性差,耐候性与耐刮性两者不易兼得。
就算是陶瓷镀膜虽能兼具耐候性与耐刮性,但镀膜成色不均,色差大,镀率慢,良率低,常常需要退镀、重镀,制作过程繁琐,因而大增制造成本,不利市场竞争条件,这些都是现有手机镀膜技术的缺点。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明主要目的在于提供一种能够兼具耐候性,耐刮性且镀膜成色均匀,镀率高,良率高的手机镀膜。
本发明提供的手机镀膜,以高熵液态合金的靶材,以溅镀的方式,将高熵液态合金靶材溅镀于手机的底材或基材上,以制成手机镀膜;其中该高熵液态合金靶材的合金比例采用下例通式,令金属元素混以非金属元素:该金属元素包括:AlaCobCrcCudFeeMnfMogNihTiiWjAgkAulGamSnnZnoZrp;该非金属元素包括:BqCrPsSit,其中各原子百分比各介于下述范围之间:
Al(铝):a=1~50%;Co(钴):b=0~50%;Cr(铬):c=0~50%; Cu(铜):d=0~70%;Fe(铁):e=0~50%;Mn(锰):f=1~35%; Mo(钼):g=0~35%;Ni(镍):h=0~50%;Ti(钛):i=0~50%; W(钨):j=1~35%;Ag(银):k=0~20%;Au(金):l=0~30%; Ga(镓):m=0~10%;Sn(锡):n=0~10%;Zn(锌):o=0~20%; Zr(锆):p=0~50%;B(硼):q=0~20%;C(碳):r=0~20%; P(磷):s=0~20%;Si(硅):t=0~20%; 上式中,选出至少5种或多种金属元素,以为高熵合金;并选出多种液态合金元素,加以混合以制成该高熵液态合金靶材。
作为其中一具体实施方式,该金属元素与非金属元素包括下式:CrcFeeMogNihCrBqSit,其中,c,e,g,h,r,q及t的原子百分比分别为:c=15~50%;e=20~50%;g=10~30%;h=0~50%;r=5~20%;q=4~20%;t=1~10%。
作为其中一具体实施方式,该金属元素与非金属元素包括下式:CobCrcFeeMogNihTiiWjCrBqSit,其中,b,c,e,g,h,i,j,r,q及t的原子百分比分别为:b=5~30%;c=10~35%;e=10~35%;g=0~30%;h=10~35%;i=5~35%;j=0~30%;r=0~20%;q=0~20%;t=1~10%。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于态金材料科技股份有限公司,未经态金材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710666237.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:靶材焊接方法
- 下一篇:一种超硬耐磨ITO玻璃
- 同类专利
- 专利分类