[发明专利]盖体和使用了该盖体的基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201710651619.2 申请日: 2017-08-02
公开(公告)号: CN107689336B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 阿部任弘;长谷川孝祐;安部俊裕 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 使用 处理 装置
【说明书】:

本发明的目的在于提供一种能够防止副生成物的附着本身的盖体和使用了该盖体的基板处理装置。该盖体具有:金属板;石英板,其设置于该金属板上;螺纹孔,其贯穿所述石英板,该螺纹孔设置到所述金属板的预定深度;螺钉,其插入该螺纹孔,该螺钉用于将所述石英板固定于所述金属板;以及吹扫气体供给孔,其在俯视时设置于比该螺钉靠内侧的位置,该吹扫气体供给孔能够从所述金属板的内部朝向所述石英板的底面供给吹扫气体,以便能够向所述石英板与所述金属板之间的间隙供给吹扫气体。

技术领域

本发明涉及盖体和使用了该盖体的基板处理装置。

背景技术

以往以来,公知有一种基板处理装置,该基板处理装置具有:处理室,其具有供基板出入的炉口;开闭门,其对处理室的炉口进行开闭;包围部,其在开闭门的开位置包围开闭门的周围的至少一部分;排气部件,其对包围部内强制地进行排气,通过对包围部内进行强制排气,防止已附着到开闭门的副生成物固定(参照例如专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2005-93489号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而,在专利文献1所记载的结构中,无法防止副生成物附着于开闭门,因此,无法防止所附着的副生成物中的、一定程度的副生成物的残留。

因此,本发明的目的在于提供一种能够防止副生成物的附着本身的盖体和使用了该盖体的基板处理装置。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的,本发明的一形态的盖体具有:金属板;

石英板,其设置于该金属板上;

螺纹孔,其贯穿所述石英板,该螺纹孔设置到所述金属板的预定深度;

螺钉,其插入该螺纹孔,该螺钉用于将所述石英板固定于所述金属板;以及

吹扫气体供给孔,其在俯视时设置于比该螺钉靠内侧的位置,该吹扫气体供给孔能够从所述金属板的内部朝向所述石英板的底面供给吹扫气体,以便能够向所述石英板与所述金属板之间的间隙供给吹扫气体。

发明的效果

根据本发明,能够防止副生成物向盖体的附着本身。

附图说明

图1是表示所述立式热处理装置的内部的平面图。

图2是从右侧方侧观察立式热处理装置的纵剖视图。

图3是从后方侧观察立式热处理装置的纵剖视图。

图4是热处理炉、晶圆舟皿和盖体的立体图。

图5是表示本发明的参考例的盖体的图。

图6是表示本发明的实施方式的盖体的一个例子的表面的平面图。

图7是表示本实施方式的盖体的一个例子的背面的平面图。

图8是表示图6的A-A截面的图。

图9是表示图6的B-B截面的图。

图10是表示图6的B-B截面的立体图。

图11是表示本发明的实施方式的盖体的石英板的一个例子的平面形状的图。

图12是表示图6的A-A截面的第2图。

图13是表示图6的B-B截面的第2图。

图14是图13的俯视放大图。

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