[发明专利]一种衰减全反射式太赫兹光谱测量探头有效

专利信息
申请号: 201710649298.2 申请日: 2017-08-02
公开(公告)号: CN107664626B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 袁英豪;姚远;洪普;李长庚;周正 申请(专利权)人: 华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
主分类号: G01N21/3581 分类号: G01N21/3581;G01N21/01
代理公司: 武汉凌达知识产权事务所(特殊普通合伙) 42221 代理人: 刘念涛;宋国荣
地址: 430070 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 椭圆面 左焦点 探头 圆形平面 波束 衰减全反射 太赫兹光谱 测量探头 太赫兹发射源 太赫兹探测器 测量信噪比 测量窗口 测量界面 光学设计 环境因素 会聚光斑 水汽 金属膜 上锥面 下锥面 减小 涂覆 下锥 测量 传输 焦点
【说明书】:

发明公开了一种衰减全反射式太赫兹光谱测量探头,探头实体由上椭圆面、下椭圆面、圆形平面、上锥面和下锥面组成,上锥面上设置有上椭圆面左焦点,太赫兹发射源设置在上椭圆面左焦点上,下锥面上设置有下椭圆面左焦点,太赫兹探测器设置在下椭圆面左焦点上,圆形平面的圆心上设置有上下椭圆面右焦点,圆形平面上设有中央测量窗口;本发明采用一体式光学设计,有效提高探头工作的稳定性;太赫兹波束在探头实体内部传输,且探头实体外表面涂覆金属膜,可有效避免空气水汽等环境因素对测量结果的不良影响;太赫兹波束在测量界面处为会聚光斑,有效提高功率密度,提升测量信噪比,减小对测量样品的接触表面积要求。

技术领域

本发明属于太赫兹光谱测量技术领域,具体涉及一种衰减全反射式太赫兹光谱测量探头。

背景技术

得益于太赫兹波的穿透性、安全性和指纹光谱等特性,太赫兹光谱测量技术在物质成分分析、生物制药、医学诊断、无损检测等领域具有广泛的、独特的应用价值。太赫兹光谱测量系统工作时,常见的测量模式有透射式、反射式和衰减全反射式。其中,衰减全反射式测量模式特别适用于微量粉末样品或液体样品的太赫兹光谱测量。为了实现衰减全反射式测量,已报道的方案CN102590125A、CN106580264A、CN105928898A均采用分离式光学元件搭建而成,一定程度上影响光路的稳定性,且测量时容易受到空气中水汽的影响;方案CN204495714U采用一体式光学设计方案,可以较好的解决上述问题,但是:(1)太赫兹波束在全内反射界面(即测量接触面)为发散光束,光斑直径大、能量密度下降,尤其是当探测样品不能全部覆盖太赫兹光斑时,一方面导致信噪比下降,另一方面也会使测量结果受到空气中水汽的影响;(2)由于测量接触面为非平面设计(椭球面),对待测样品的形貌有特定要求,限制了应用场景。

发明内容

本发明的目的在于根据现有技术的不足,设计一种一体式的衰减全反射式太赫兹光谱测量探头,本发明解决了现有技术方案中分离式光路设计稳定性差、易受空气水汽影响、测量接触面太赫兹光束能量密度低导致灵敏度降低、测量接触面非平面使测量环境受限等缺点。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种衰减全反射式太赫兹光谱测量探头,包括探头实体、太赫兹发射源和太赫兹探测器,所述的探头实体由上椭圆面、下椭圆面、位于后侧的圆形平面以及位于前方的上锥面和下锥面组成,所述的上锥面和下锥面的夹角为90°,所述的上锥面上设置有上椭圆面左焦点,所述的太赫兹发射源设置在上椭圆面左焦点上,所述的下锥面上设置有下椭圆面左焦点,所述的太赫兹探测器设置在下椭圆面左焦点上,所述的圆形平面的圆心上设置有上下椭圆面右焦点,所述的圆形平面上位于上下椭圆面右焦点处设置有中央测量窗口。

所述的探头实体的外表面除中央测量窗口以及安装太赫兹发射源和太赫兹探测器的位置外均设置有金属膜。

所述的探头实体采用高阻硅件。

所述的太赫兹发射源和太赫兹探测器均采用光纤耦合式的太赫兹光电导天线。

本发明的有益效果是:

1、本发明采用一体式光学设计,有效提高探头工作的稳定性。

2、本发明使太赫兹波束在探头实体内部传输,且探头实体外表面涂覆金属膜,可有效避免空气水汽等环境因素对测量结果的不良影响。

3、本发明的圆形平面上设置有位于上下椭圆面右焦点处的中央测量窗口,使太赫兹波束在测量界面处为会聚光斑,有效提高功率密度,提升测量信噪比,减小对测量样品的接触表面积要求。

4、本发明的测量接触面为平面,实用性强。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

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