[发明专利]一种碲镉汞薄膜组分的测试方法有效

专利信息
申请号: 201710647279.6 申请日: 2017-08-01
公开(公告)号: CN107576629B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 许秀娟;高达;折伟林;王经纬 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: G01N21/3563 分类号: G01N21/3563
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 田卫平
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 碲镉汞 薄膜 组分 测试 方法
【权利要求书】:

1.一种碲镉汞薄膜组分的测试方法,其特征在于,包括:

将待处理的碲镉汞薄膜固定在样品台上,将所述样品台放入红外光谱仪的样品腔室中;

对所述样品腔室抽真空至第一预设气压,对所述红外光谱仪抽真空至第二预设气压,再将所述样品腔室温度降至预定温度;

启动所述红外光谱仪,按照预定调节范围调节所述红外光谱仪的预定参数,并按照调节后的预定参数对所述待处理的碲镉汞薄膜进行光致发光测试,得到光谱图,以根据所述光谱图对所述待处理的碲镉汞薄膜组分进行分析;

所述按照预定调节范围调节所述红外光谱仪的预定参数,包括:

将激光功率调至80mW至100mW中的任一值;

将光阑按钮调节至档位3、档位5或档位6;

将测量模式设置为时间分辨步进扫描,其中,所述时间分辨步进扫描的时间分辨率设为50ms;

将时间片数调至10至30中的任一值;

将一次扫描的累计次数调至100次至300次中的任一值;

将光谱波数的分辨率设置为16cm-1或32cm-1

所述根据所述光谱图对所述待处理的碲镉汞薄膜组分进行分析,包括:

解析所述光谱图,得到多个峰值;

将所有峰值对应的波长依次代入第一预定公式得到各个所述峰值对应的波长对应的禁带宽度Eg值;

将多个所述Eg值分别代入第二预定公式进行计算,以得到所述碲镉汞薄膜的组分;

所述第一预定公式为Eg=hc/λ;

所述第二预定公式为Eg=-0.302+1.93x+5.35×10-4T(1-2x)-0.81x2+0.832x3,其中,T为所述预定温度,λ为所述峰值对应的波长,h为普朗克常数,x为待测组分,c为光速。

2.如权利要求1所述的测试方法,其特征在于,将待处理的碲镉汞薄膜固定在样品台上之前,还包括:

将预定表面积的碲镉汞薄膜放入预定浓度的溴甲醇溶液中腐蚀至预定厚度,以将腐蚀后的碲镉汞薄膜作为所述待处理的碲镉汞薄膜。

3.如权利要求2所述的测试方法,其特征在于,所述预定浓度为0.5%。

4.如权利要求2所述的测试方法,其特征在于,所述预定表面积的范围是12mm×12mm至25mm×30mm。

5.如权利要求2所述的测试方法,其特征在于,将预定表面积的碲镉汞薄膜放入预定浓度的溴甲醇溶液中腐蚀至预定厚度之后,还包括:

用预定洗液清洗所述碲镉汞薄膜表面。

6.如权利要求5所述的测试方法,其特征在于,用预定洗液清洗所述碲镉汞薄膜表面之后,还包括:

按照预定角度用高纯氮气枪沿所述碲镉汞薄膜边缘吹气,其中,所述预定角度为所述高纯氮气枪出气方向与所述碲镉汞薄膜表面成30度至45度的角度。

7.如权利要求1至6中任一项所述的测试方法,其特征在于,所述预定温度为77K。

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