[发明专利]一种湿法清洗物载具预脱水方法及所用提升机构在审
申请号: | 201710639423.1 | 申请日: | 2017-07-31 |
公开(公告)号: | CN107516694A | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 戴国健 | 申请(专利权)人: | 常州市杰洋精密机械有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/677;H01L21/683;H01L21/687 |
代理公司: | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙)32258 | 代理人: | 郑云 |
地址: | 213000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 湿法 清洗 物载具预 脱水 方法 所用 提升 机构 | ||
技术领域
本发明涉及一种湿法清洗物载具预脱水方法及所用提升机构。
背景技术
在湿法设备行业,尤其是在太阳能硅片槽式湿法处理设备行业中,为了使硅片快速烘干,目前通行做法是将装有硅片的载具进行预脱水处理,其主要方法为采用提升机构,将装有硅片的载具整体以水平状从液体槽体内缓慢提升,以达到硅片上不存在明显滴状液体的目的。当通过预脱水的硅片进入烘干工序时只需要将湿气烘干即可,不需要对滴状难烘干液体烘干,可大大缩短烘干时间。虽然目前设备采用这种预脱水方式可以将硅片上的滴状液体清除掉,但是装载硅片的载具上的滴状液体,尤其是在载具承载杆底部以及载具侧板底部依然存在大量滴状液体,其结果变成真正需要花费比较多的时间去烘干载具上的液体。随着市场对产能的要求不断提升,目前的烘干时间也不满足要求了,因此通常通过增设烘干工序的数量来解决烘干时间的问题,这就造成了成本上升和能源消耗更大。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:为了克服现有技术中之不足,本发明提供一种湿法清洗物载具预脱水方法及所用提升机构,以实现硅片或清洗物和载具整体预脱水的良好效果。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种湿法清洗物载具预脱水方法,载有清洗物的载具安装在提升架上后整体置于清洗槽内,具有以下步骤:
a、提升架一端上升而使载具处于倾斜状态;
b、载有倾斜状态载具的提升架两端同步向上提升,载具脱离清洗液面,直至脱水完成;
c、提升架一端下降至提升架上的载具恢复水平状态。
一种上述预脱水方法的提升机构,具有安装载具的提升架,清洗完毕的清洗物置于载具上,所述的提升架两端分别活动连接有推动提升架升降而实现载具倾斜提升以脱离清洗液面的提升件。
优选地,所述的提升件为铰接在提升架左端的第一提升臂、铰接在提升架右端的第二提升臂。
还可以,所述的提升件为铰接在提升架左端的第一提升臂、连接在提升架右端的牵引绳。
也可以,所述的提升件为铰接在提升架左端的第一提升臂、活塞杆端部与提升架右端铰接的气缸。
本发明的有益效果是:本发明将传统的载具水平提升改为倾斜提升,在提升过程中,使得载具的承载杆和侧板底部的液体可以顺着倾斜的方向脱离水面,不会因载具呈水平状态而无处可走,在脱离水平时被拉断,形成滴状,从而达到硅片或清洗物和载具整体预脱水良好的效果,为后道烘干工序节省了大量的烘干时间。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明所述提升过程的状态示意图。
图2是本发明所述提升件的第一种结构示意图。
图3是本发明所述提升件的第二种结构示意图
图4是本发明所述提升件的第三种结构示意图
图中:1.提升架 2.载具 3.清洗槽 4.第一提升臂 5.第二提升臂 6.牵引绳 7.顶升气缸 8.旋转关节
具体实施方式
现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。
如图1所示,一种湿法清洗物载具预脱水方法,载有清洗物的载具2安装在提升架1上后整体置于清洗槽3内,具有以下步骤:
a、提升架1一端上升而使载具2处于倾斜状态;
b、载有倾斜状态载具2的提升架1两端同步向上提升,载具2脱离清洗槽3内的清洗液面,直至脱水完成;
c、提升架1一端下降至提升架1上的载具2恢复水平状态。
一种上述预脱水方法所用提升机构,具有放置载具2的提升架1,清洗完毕的清洗物置于载具2上,所述的提升架1两端分别活动连接有推动提升架1升降而实现载具2倾斜提升以脱离清洗液面的提升件。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的