[发明专利]基板及其制备方法、显示面板、显示装置在审
| 申请号: | 201710620129.6 | 申请日: | 2017-07-26 |
| 公开(公告)号: | CN107424520A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
| 发明(设计)人: | 张震 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 彭久云 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种基板,包括:
衬底基板,所述衬底基板包括弯折区;
设置于所述衬底基板上的绝缘层;
其中,位于所述弯折区的绝缘层设置有至少一个凹槽,所述凹槽的表面包括至少一个凹凸结构。
2.根据权利要求1所述的基板,还包括至少部分设置于所述凹槽中的信号线,其中,所述信号线覆盖至少部分所述凹凸结构。
3.根据权利要求2所述的基板,其中,
位于所述凹槽中的所述信号线表面包括对应于所述凹凸结构的非平坦部分。
4.根据权利要求2所述的基板,其中,
所述绝缘层包括第一绝缘层,所述第一绝缘层至少覆盖所述弯折区;以及
所述凹槽包括设置于所述第一绝缘层中的第一凹槽。
5.根据权利要求4所述的基板,其中
所述第一凹槽包括沿所述第一凹槽的延伸方向且相对设置的第一侧面和第二侧面,所述第一侧面和所述第二侧面中的至少一个为斜面、阶梯面和弧形面中的一种或组合。
6.根据权利要求4所述的基板,其中,
所述绝缘层还包括至少覆盖所述第一凹槽的第二绝缘层,所述第二绝缘层位于所述信号线和所述第一绝缘层之间;以及所述凹槽包括位于与所述第一凹槽对应的所述第二绝缘层中的第二凹槽。
7.根据权利要求6所述的基板,其中,
所述第二绝缘层包括聚酰亚胺和光刻胶中的至少一种。
8.一种显示面板,包括权利要求1-7任一项所述的基板。
9.一种显示装置,包括权利要求8所述的显示面板。
10.一种基板的制备方法,包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板上形成绝缘层,所述衬底基板包括弯折区;
在所述弯折区中的所述绝缘层中形成至少一个凹槽;
其中,所述凹槽的表面形成有至少一个凹凸结构。
11.根据权利要求10所述的制备方法,还包括:
在形成有所述绝缘层的衬底基板上形成信号线,所述信号线至少部分位于所述凹槽中。
12.根据权利要求11所述的制备方法,其中,形成所述绝缘层并且在所述绝缘层中形成所述凹槽包括:
在所述衬底基板上形成第一绝缘层,所述第一绝缘层至少覆盖所述弯折区;
在所述弯折区中的所述第一绝缘层中形成第一凹槽。
13.根据权利要求12所述的制备方法,其中,在所述凹槽的表面形成所述凹凸结构包括:
对所述第一绝缘层的形成有第一凹槽的区域进行不均匀刻蚀处理,以在所述第一凹槽的表面形成多个凹凸结构。
14.根据权利要求12所述的制备方法,其中,形成所述绝缘层并且在所述绝缘层中形成所述凹槽还包括:
在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成第二绝缘层,所述第二绝缘层至少覆盖所述第一凹槽,所述第二绝缘层位于所述信号线和所述第一绝缘层之间;
在与所述第一凹槽对应的所述第二绝缘层中形成第二凹槽。
15.根据权利要求14所述的制备方法,其中,所述第二绝缘层为光刻胶,在所述凹槽的表面形成所述凹凸结构包括:
在所述第一凹槽中的所述第一绝缘层上涂覆所述光刻胶;
提供透光率分布不均匀的灰色掩膜板,通过所述灰色掩膜板对所述第二凹槽中的所述光刻胶的表面进行曝光,去除所述光刻胶的被曝光的部分。
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