[发明专利]一种标牌的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710617526.8 申请日: 2017-07-26
公开(公告)号: CN107248369A 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 高建民 申请(专利权)人: 深圳市中联讯科技有限公司
主分类号: G09F7/00 分类号: G09F7/00
代理公司: 深圳市博锐专利事务所44275 代理人: 张明
地址: 518000 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 标牌 制作方法
【权利要求书】:

1.一种标牌的制作方法,其特征在于,在用于制作标牌的片材原料的一侧面进行UV转印,形成UV转印胶层;在所述UV转印胶层上进行光学镀膜,依次镀覆形成顺序层叠的第一SiO2层、TiO2层、Al2O3层和第二SiO2层,得到所述标牌。

2.根据权利要求1所述的标牌的制作方法,其特征在于,于镀覆形成的第二SiO2层的表面进行丝印,然后于丝印后的片材原料上设置粘接层。

3.根据权利要求2所述的标牌的制作方法,其特征在于,所述粘接层为3M胶层。

4.根据权利要求1所述的标牌的制作方法,其特征在于,还包括步骤:将所述标牌进行切割。

5.根据权利要求1所述的标牌的制作方法,其特征在于,所述片材原料为PET片材。

6.根据权利要求1所述的标牌的制作方法,其特征在于,所述UV转印胶层的厚度为5-8μm。

7.根据权利要求1所述的标牌的制作方法,其特征在于,所述UV转印胶层的主体材料为聚丙烯酸。

8.根据权利要求1所述的标牌的制作方法,其特征在于,所述第一SiO2层的厚度为60-70nm,所述TiO2层的厚度为50-70nm,所述Al2O3层的厚度为30-50nm,所述第二SiO2层的厚度为50-80nm。

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