[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置

说明书

技术领域

本发明实施例属于显示技术领域，涉及一种阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

实现有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)彩色化的技术中，包含有两种主流技术，即微腔效应RGB像素独立发光技术，和白色发光材料配合彩色滤光层技术。

其中，微腔效应RGB像素独立发光需要利用精密蒸镀掩膜板与像素对位技术，制备微腔效应的红、绿、蓝三基色发光中心，实现彩色化，往往需要使用多块精密蒸镀掩膜板，而使用精密蒸镀掩膜板的方法难以确保子像素的定位精度，比较难实现高像素密度的显示面板，而且，精密蒸镀掩膜板价格昂贵，会导致成本增加。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提出一种阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置，以减少精密蒸镀掩膜板的使用，降低精密蒸镀掩膜板的加工精度，降低工艺成本。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板包括多个像素单元，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元，包括：

提供衬底；

在所述衬底上的所述红色子像素单元、所述绿色子像素单元和所述蓝色子像素单元中形成相互分离的第一电极；

在所述红色子像素单元中的所述第一电极远离所述衬底一侧的表面形成光学调节层；

在所述红色子像素单元、所述绿色子像素单元和所述蓝色子像素单元之间形成像素定义层；

采用第一掩膜板在所述蓝色子像素单元中的所述第一电极远离所述衬底一侧的表面形成蓝色发光层，其中，所述第一掩膜板的每个开口覆盖对应像素单元的蓝色子像素单元；

采用第二掩膜板在所述红色子像素单元中的所述光学调节层远离所述衬底一侧的表面，以及所述绿色子像素单元中的所述第一电极远离所述衬底一侧的表面形成黄色发光层，其中，所述第二掩膜板中的每个开口覆盖对应像素单元的红色子像素单元和绿色子像素单元；

在所述蓝色发光层以及所述黄色发光层上覆盖第二电极。

第二方面，本发明实施例提供了一种根据上述第一方面所述的阵列基板的制备方法所制备的阵列基板，包括：

衬底；

多个像素单元，位于所述衬底上，所述像素单元包括红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；

所述红色子像素单元、所述绿色子像素单元和所述蓝色子像素单元之间形成有像素定义层；

所述红色子像素单元包括依次层叠的第一电极、光学调节层、黄色发光层和第二电极；

所述绿色子像素单元包括依次层叠的所述第一电极、所述黄色发光层和所述第二电极；

所述蓝色子像素单元包括依次层叠的所述第一电极、所述蓝色发光层和所述第二电极；

所述红色子像素单元、所述绿色子像素单元和所述蓝色子像素单元中的第一电极相互分离。

第三方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括上述第二方面所述的阵列基板和封装层。

第四方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述第三方面所述的显示面板。

本发明的有益效果是：本发明提供的阵列基板的制备方法、阵列基板、显示面板及显示装置，通过在红色子像素单元中的第一电极远离衬底一侧的表面形成光学调节层，以调节红色子像素单元的腔长，使红色子像素单元的腔长不同于绿色子像素单元和蓝色子像素单元的腔长，实现红光、绿光和蓝光同时增强；再通过采用开口仅覆盖蓝色子像素单元的第一掩膜板在蓝色子像素单元中的第一电极远离衬底一侧的表面形成蓝色发光层，并采用开口覆盖红色子像素单元和绿色子像素单元的第二掩膜板在红色子像素单元中的光学调节层远离衬底一侧的表面，以及绿色子像素单元中的第一电极远离衬底一侧的表面形成黄色发光层，由此，既在不同颜色子像素单元中形成了不同腔长的微腔结构，又避免使用蒸镀发光材料用的密蒸镀掩膜板，降低了制备掩膜板的工艺难度，从而降低了工艺成本。综上，与现有技术相比，本发明实施例在实现红光、绿光和蓝光同时增强的情况下，减少了精密蒸镀掩膜板的使用，降低精密蒸镀掩膜板的加工精度，降低了工艺成本。

附图说明

下面将通过参照附图详细描述本发明的示例性实施例，使本领域的普通技术人员更清楚本发明的上述及其他特征和优点，附图中：

图1是本发明实施例提供的阵列基板的制备方法的流程示意图；

图2a-2f是本发明实施例提供的阵列基板的制备方法各流程对应的剖面结构示意图；