[发明专利]针对高速环境下OFDM系统频偏的测量方法及用途、测量装置在审

专利信息
申请号: 201710582783.2 申请日: 2017-07-17
公开(公告)号: CN107623650A 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 熊军;郭晓峰;夏传荣;王立新 申请(专利权)人: 西安宇飞电子技术有限公司
主分类号: H04L27/00 分类号: H04L27/00;H04L27/26
代理公司: 北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙)11504 代理人: 宋林清
地址: 710075 陕西省西安市高新区锦业*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 针对 高速 环境 ofdm 系统 测量方法 用途 测量 装置
【权利要求书】:

1.针对高速环境下OFDM系统频偏的测量方法,其特征在于,包括以下步骤:

S110,接收同步信号;

S120,根据所述同步信号的相邻两段序列的相位差计算粗频偏Δfcoarse

S130,获取导频,所述导频变换到时域,以获取当前的信噪比;

S140,所述信噪比大于门限;

S150,获取常规时隙下多个符号的导频,并通过所述多个符号的导频重复相关进行精频偏Δfoffset的测量;

S160,计算目标频偏Δfall=Δfcoarse+Δfoffset

2.根据权利要求1所述的针对高速环境下OFDM系统频偏的测量方法,其特征在于,在步骤S120中,所述粗频偏的计算步骤包括:

S1201,基于以下公式,所述相邻两段序列首先分别与各自的本地序列共轭相乘,然后再共轭相乘,以计算共轭相关值

其中,synr1(k)与synr2(k)为相邻两段同步序列,synt1(k)与synt2(k)为相邻两段本地同步序列,所述共轭相关值R代入步骤S1202中的公式;

S1202,基于以下公式,根据所述共轭相关值R计算相位差所述相位差代入步骤S1203中的公式;

S1203,根据所述相位差计算粗频偏

其中,为相位差,L为采样点数,fs为采样速度,所述粗频偏Δfcoarse代入步骤S160中的公式。

3.根据权利要求2所述的针对高速环境下OFDM系统频偏的测量方法,其特征在于,在步骤S130中,所述导频变换到时域的信号特性为k=1:L/2,其中,synr1(k)为同步序列,synt1(k)为本地同步序列。

4.根据权利要求1所述的针对高速环境下OFDM系统频偏的测量方法,其特征在于,在步骤S140中,当所述信噪比小于门限时,则返回至步骤S110。

5.根据权利要求1所述的针对高速环境下OFDM系统频偏的测量方法,其特征在于,在步骤S150中,所述精频偏Δfoffset的计算步骤,包括:

S1501,将导频信道估计得到的信道H按导频所在的OFDM符号排列,排列后的导频信道估计表示为其中m=1,2,…M表示一个时隙中包含列导频符号,nrs=1,2…N表示一个OFDM符号中含导频的个数;

S1502,计算不同符号同一频点对的共轭相关值之和,为了进行子载波对齐,采用第一列和第三列的导频符号作共轭相关,第二列和第四列的导频符号作共轭相关:

R_sum=R_sum1+R_sum2

其中,R_sum1为第一列和第三列的导频符号的共轭相关值,R_sum2为第二列和第四列的导频符号的共轭相关值,R_sum为第一列、第二列、第三列和第四列的导频符号的共轭相关值之和,conj()表示求共轭运算;

S1503,求所述共轭相关值之和R_sum对应的角度φ=angle(R_sum),其中,angle()表示求角度运算,用Cordic函数来实现;

S1504,计算共轭相关对所在两列导频符号的时间间隔;

L=2*(NFFT+NCP),NFFT为FFT变换所选取的点数,NCP循环前缀点数,因此,无需区分CP类型,L是一个与下行系统带宽绑定的正整数;

S1505,计算精频偏其中,分母中的π可以与分子中的单位相抵消。

6.根据权利要求1至5所述的针对高速环境下OFDM系统频偏的测量方法用于校准频偏。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安宇飞电子技术有限公司,未经西安宇飞电子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710582783.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top