[发明专利]快速查找和修正版图数据中异常图形的方法

说明书

本发明公开了一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，包含：步骤一、解析版图数据，根据设计规则将查找到的异常图形进行编码；步骤二、根据编码，对于各个异常图形进行坐标值提取、层次信息提取、单元体名称提取并进行数据存储；步骤三、将版图中的异常图形进行特征扫描，判断是否符合自动化修正的标准，如符合则进行自动处理，如不符合则以报错信息输出相应的提示，以便人工进行判断和修正版图；步骤四、对于步骤三修正后的数据再次进行分析，输出结果。如本次版图数据中未查找到任何异常图形，则判定为数据异常图形检查合格，否则判定为数据异常图形检查不合格。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，特别是指一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法。

背景技术

在客户版图数据检查的过程中，会碰到许多复杂的结构设计。受EDA(电子设计自动化)工具所限，无法有效地对这些异常图形进行处理，所以一般在数据处理前时，就预先进行检查和判断，可以避免异常图形的流出。

其中self-intersecting path(自相交的图形)就是一个很好的例子：EDA工具在进行DRC(Design Rule Check)时，无法识别此类path，导致后续数据在进行EB(层次演算)后，此类图形可能会丢失。这个方法不同于以往目视检查的方法，而是将此类数据图形的特征进行编码，实现自动化查找。

一，禁用图形是如何产生的？

画版图时，我们会调用PCELL(参数化单元)来提高效率，而PCELL是通过直接计算点的坐标生成的，所以在当各个点的坐标运算异常的情况下，错误就会出现。

自动版图设计工具，一些自动化的版图工具在布局布线时也会产生一些禁用图形。

禁用图形包括一些path点的坐标过于集中、自相交的path、宽度为零的path、封闭的path、锐角path以及一些具有重叠线的path。

二，版图数据中为什么要禁用某些图形？

1.有不能被EDA软件识别的可能性：很多禁用图形不能被EB(层次运算)处理软件所读取，尤其是一些比较老的工具，如Silver。

2.处理结果的不确定性：EB处理软件对一些禁用图形有两种不同的处理方法，不同的设置，会导致处理结果的不同，所以最好的方法是不要出现这些图形，做到源头控制。

3.MaskShop(光罩厂)的诉求：目前我们已将局大多数工艺的EB(层次运算)转移到MaskShop来操作，但沟通时他们提出数据中不要出现这些图形。也是同样出于异常图形可能丢失而导致光罩制版错误带来的风险。

4.图形丢失：造成掩模板重新制版，比如在两个0.35μm工艺产品光罩制版后发现禁用图形丢失，可能会造成多块mask重做，对线上客户产品的交货日期造成了很大的延误。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，可预先进行检查和判断，避免异常图形的流出。

为解决上述问题，本发明所述的快速查找和修正版图数据中异常图形的方法，包括如下的步骤：

步骤一、解析版图数据，根据设计规则将查找到的异常图形进行编码；

步骤二、根据编码，对于各个异常图形进行坐标值提取、层次信息提取、单元体名称提取并进行数据存储；

步骤三、对版图中的异常图形进行特征扫描，然后与后台数据库中存储的设计规则信息进行比较，判断是否符合自动化修正的标准；如符合则进行自动处理，如不符合则以报错信息输出相应的提示，以便人工进行判断和修正版图；

步骤四、对于修正后的数据再次进行分析，输出结果；如本次版图数据中未查找到任何异常图形，则判定为数据异常图形检查合格，否则判定为数据异常图形检查不合格。