[发明专利]聚焦环更换方法

说明书

本发明提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。该聚焦环更换方法在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用，更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环，该聚焦环更换方法的特征在于，包括以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台，通过这样的聚焦环更换方法解决上述问题。

技术领域

本发明涉及一种聚焦环更换方法。

背景技术

已知一种将基板载置于在处理室的内部设置的载置台来进行等离子体处理的等离子体处理装置。在这种等离子体处理装置中，存在由于反复进行等离子体处理而逐渐消耗这样的消耗部件(例如参照专利文献1)。

作为消耗部件，例如列举设置于载置台的上表面的基板的周围的聚焦环。聚焦环暴露于等离子体而被削减，因此需要定期进行更换。

因此，在以往定期将处理室向大气开放，操作者手动进行聚焦环的更换。

专利文献1：日本特开2006-253541号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在将处理室向大气开放的方法中，聚焦环的更换需要较长时间，在进行聚焦环的更换的期间，无法在处理室内对基板进行处理，因此生产率下降。

因此，在本发明的一个方式中，其目的在于提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明的一个方式的聚焦环更换方法在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用，更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环，该聚焦环更换方法的特征在于，包括以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置来将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。

发明的效果

通过公开的聚焦环更换方法，能够提高生产率。

附图说明

图1是示出一个实施方式的等离子体处理系统的概要结构图。

图2是示出一个实施方式的等离子体处理装置的概要截面图。

图3是用于说明一个实施方式的聚焦环更换方法的流程图。

图4是用于说明图1的处理单元侧搬送装置的图。

图5是示出图1的处理单元侧搬送装置保持着晶圆的状态的图。

图6是示出图1的处理单元侧搬送装置保持着聚焦环的状态的图。

图7是用于说明图1的位置检测传感器的图。

图8是用于说明校正晶圆的位置的方法的图。

图9是用于说明校正聚焦环的位置的方法的图。

附图标记说明