[发明专利]聚焦环更换方法有效

专利信息
申请号: 201710572034.1 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN107622935B 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 石泽繁 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 聚焦 更换 方法
【权利要求书】:

1.一种聚焦环更换方法,在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用,更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环,该聚焦环更换方法的特征在于,包括以下步骤:

能否更换判定步骤,在判定为需要进行聚焦环的更换的情况下,判定所述等离子体处理装置的状态是否为能够进行所述聚焦环的更换的状态;

第一清洁步骤,当在所述能否更换判定步骤中判定为能够进行所述聚焦环的更换的状态时,对所述处理室内进行清洁处理;

搬出步骤,在所述第一清洁步骤之后,不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置来将所述聚焦环从所述处理室内搬出;

第二清洁步骤,在所述搬出步骤之后,对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理;以及

搬入步骤,在所述第二清洁步骤之后,不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台,

其中,在所述搬出步骤之前对所述处理室内进行清洁处理。

2.根据权利要求1所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

在所述搬入步骤之后进行陈化处理。

3.根据权利要求1或2所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

所述搬送装置为将所述基板搬送到所述处理室的搬送装置。

4.根据权利要求3所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

所述搬送装置以保持着所述基板的外周缘部的状态搬送所述基板,以保持着所述聚焦环的下表面的状态搬送所述聚焦环。

5.根据权利要求3所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

所述搬送装置能够旋转,在搬送所述聚焦环时,以旋转半径为最小的方式进行旋转。

6.根据权利要求3所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

在所述搬入步骤中,在由所述搬送装置保持着所述聚焦环的状态下检测所述聚焦环的位置,对所检测出的所述聚焦环的位置与基准位置之间的偏移进行校正后将所述聚焦环载置于所述载置台。

7.根据权利要求6所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

基于所述聚焦环的内周缘部的位置来检测所述聚焦环的有无和所述聚焦环的位置。

8.根据权利要求1或2所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

所述聚焦环更换方法还具有消耗度判定步骤,在该消耗度判定步骤中判定是否需要进行所述聚焦环的更换,

在所述消耗度判定步骤中判定为需要进行所述聚焦环的更换的情况下,进行所述搬出步骤。

9.根据权利要求1或2所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

所述清洁处理是非等离子体粒子清洁或使用等离子体的处理。

10.根据权利要求1或2所述的聚焦环更换方法,其特征在于,

所述清洁处理在所述载置台载置有所述基板的状态下进行。

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