[发明专利]磁盘用玻璃基板及其制造方法、磁盘、圆环状的玻璃基板

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板，其是具有一对主表面、外周侧的侧壁面、以及主表面与侧壁面之间的倒角面的磁盘用玻璃基板，该磁盘用玻璃基板的特征在于，

所述外周侧的侧壁面利用观察倍率为1000倍的激光显微镜观察下的50μm四方的区域内的算术平均粗糙度Ra在0.015μm以下，所述50μm四方的区域内的粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度百分比为60％处的粗糙度截面积的负荷率被设定成使在所述外周侧的侧壁面的表面附着的异物的数量在利用SEM观察的100μm四方的观察区域中为5个以下的值，并且，在所述粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度截面积的负荷率为20％～80％的范围内的粗糙度百分比的变化量是25％以下，

所述主表面的算术平均粗糙度Ra在0.2nm以下。

2.一种磁盘，其特征在于，

所述磁盘在权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的表面上至少形成有磁记录层。

3.一种圆环状的玻璃基板，其作为磁盘用玻璃基板的基础，具有一对主表面、外周侧的侧壁面、以及主表面与侧壁面之间的倒角面，该圆环状的玻璃基板的特征在于，

所述外周侧的侧壁面利用观察倍率为1000倍的激光显微镜观察下的50μm四方的区域内的算术平均粗糙度Ra在0.015μm以下，所述50μm四方的区域内的粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度百分比为60％处的粗糙度截面积的负荷率被设定成使在所述外周侧的侧壁面的表面的深槽中附着的异物的数量在利用SEM观察的100μm四方的观察区域中为5个以下的值，并且，在粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度截面积的负荷率为20％～80％的范围内的粗糙度百分比的变化量是25％以下。

4.一种磁盘，其特征在于，

在以权利要求3所述的圆环状的玻璃基板作为基础的磁盘用玻璃基板的表面上至少形成有磁记录层。

5.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具有研磨处理，在该研磨处理中，使用包含研磨磨粒的研磨液，对具备一对主表面、外周侧的侧壁面、以及主表面与侧壁面之间的倒角面的圆环状的玻璃基板进行主表面的研磨，该磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，

进行该主表面的研磨处理的所述圆环状的玻璃基板的外周侧的侧壁面利用观察倍率为1000倍的激光显微镜观察下的50μm四方的区域内的算术平均粗糙度Ra在0.015μm以下，所述50μm四方的区域内的粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度百分比为60％处的粗糙度截面积的负荷率被设定成使在所述外周侧的侧壁面的表面附着的异物的数量在利用SEM观察的100μm四方的观察区域中为5个以下的值，并且，在粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度截面积的负荷率为20％～80％的范围内的粗糙度百分比的变化量是25％以下。