[发明专利]显示基板的制备方法、显示基板母板在审
申请号: | 201710377934.0 | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN107170910A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 杨忠英;吴建鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L21/683;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 制备 方法 母板 | ||
技术领域
本公开至少一个实施例涉及一种显示基板的制备方法、显示基板母板。
背景技术
当前用户对显示产品的需求越来越高,显示屏的尺寸也随之增大。但是显示屏中的显示基板在制备过程中会使用蒸镀工艺,大尺寸的显示基板会产生下垂问题,从而影响蒸镀工艺的精度,影响产品的显示良率。
公开内容
本公开提供了一种显示基板的制备方法、显示基板母板以解决上述技术问题。
本公开至少一个实施例提供一种显示基板的制备方法,包括:提供衬底基板,包括彼此相对的第一主表面和第二主表面,所述衬底基板被划分为有效区和位于所述有效区域周围的虚设区;在所述第二主表面和所述虚设区内的所述第一主表面至少之一上形成磁性层;以及在所述第一主表面上沉积元件层。
例如,在本公开至少一个实施例提供的制备方法中,在所述第一主表面上沉积元件层包括:将形成所述磁性层的衬底基板放入蒸镀设备,所述蒸镀设备包括蒸发源和磁吸附层;对所述第一主表面进行蒸镀以沉积所述元件层;其中,所述衬底基板位于所述蒸发源和所述磁吸附层之间,所述磁吸附层位于所述衬底基板的所述第二主表面的一侧。
例如,本公开至少一个实施例提供的制备方法还可以包括:在进行蒸镀之前,在所述衬底基板的第一主表面的一侧安装掩模板。
例如,在本公开至少一个实施例提供的制备方法中,所述元件层包括发光器件的阳极、阴极以及位于所述阳极和所述阴极之间的有机层至少之一。
例如,在本公开至少一个实施例提供的制备方法中,所述元件层至少形成在所述有效区。
例如,在本公开至少一个实施例提供的制备方法中,所述衬底基板包括间隔排列的多个所述有效区,相邻的所述有效区之间设置有所述虚设区。
例如,在本公开至少一个实施例提供的制备方法中,所述磁性层形成在所述虚设区内的所述第二主表面上。
例如,本公开至少一个实施例提供的制备方法还可以包括:切除所述衬底基板的所述虚设区。
例如,在本公开至少一个实施例提供的制备方法中,所述磁性层至少部分形成在所述有效区内的所述第二主表面上,所述方法还包括:使用腐蚀液对所述第二主表面上的所述磁性层进行处理以去除所述磁性层。
本公开至少一个实施例提供一种显示基板母板,包括:衬底基板,包括彼此相对的第一主表面和第二主表面,所述衬底基板被划分为有效区和位于所述有效区域周围的虚设区;设置于所述第二主表面和所述虚设区内的所述第一主表面至少之一上的磁性层;以及设置于所述第一主表面上的元件层。
例如,在本公开至少一个实施例提供的显示基板母板中,所述元件层至少形成在所述有效区内。
例如,在本公开至少一个实施例提供的显示基板母板中,所述磁性层设置在所述虚设区内的所述第二主表面上。
在本公开实施例提供的显示基板的制备方法中,在衬底基板的主表面上形成磁性层,通过磁吸附力,在蒸镀过程中,可以缓解或者消除衬底基板的下垂,从而可以提升显示基板的蒸镀良率。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案,下面将对实施例的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例,而非对本公开的限制。
图1a为本公开一个实施例提供的待加工的衬底基板的结构示意图;
图1b为图1a所示衬底基板沿A-B的截面图;
图2a为本公开一个实施例提供的磁性层在衬底基板的第一主表面上的一种分布示意图;
图2b为图2a所示形成有磁性层的衬底基板沿C-D的截面图;
图2c为本公开一个实施例提供的磁性层在衬底基板的第一主表面上的另一种分布示意图;
图3a为本公开一个实施例提供的磁性层在衬底基板的第二主表面上的一种分布示意图;
图3b为本公开一个实施例提供的磁性层在衬底基板的第二主表面上的另一种分布示意图;
图4为本公开实施例提供形成有磁性层的衬底基板安装在蒸镀设备中的结构示意图;
图5a为本公开一个实施例提供的显示基板母板的结构示意图;
图5b为图5a所示显示基板母板沿E-F的截面图;
图6a为本公开一个实施例提供的对显示基板母板进行切割工艺的结构示意图;以及
图6b为图6a所示显示基板母板切割后得到的显示基板子板的分布图。
附图标记:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
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