[发明专利]一种钝化接触太阳能电池的制备方法及其产品

权利要求书

1.一种钝化接触太阳能电池的制备方法，所述钝化接触太阳能电池包括依次层叠的基底层、钝化隧穿层以及载流子收集层，其特征在于，包括以下步骤：

在所述钝化隧穿层远离所述基底层的一侧依次沉积缓冲层和功能层，所述缓冲层和功能层均为金属，缓冲层金属的活泼性小于功能层金属的活泼性；所述缓冲层和所述功能层共同在惰性气体下进行退火处理形成所述载流子收集层，退火温度控制在[Tc-150℃, Tc+50℃]，所述Tc为缓冲层金属和功能层金属的共熔点。

2.根据权利要求1所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，在所述功能层完成沉积之后、退火之前，在所述功能层远离所述钝化隧穿层的一侧沉积保护层，所述保护层采用在空气中稳定的金属或在空气中稳定的金属氧化物。

3.根据权利要求1所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述缓冲层的厚度为0.1~2.0nm。

4.根据权利要求1所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述缓冲层金属为Al、Ti、Ni、Ag中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述功能层的厚度为2~500nm。

6.根据权利要求1所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述功能层金属为低功函数金属或高功函数金属。

7.根据权利要求2所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述保护层的厚度为10~500nm。

8.根据权利要求2所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述保护层为Ag、Al、Sn、SnO_X(l≤x≤2)中的一种或几种。

9.根据权利要求1所述的钝化接触太阳能电池的制备方法，其特征在于，所述沉积采用热蒸镀法、电子束蒸镀法、磁控溅射法或激光脉冲沉积法。

10.一种钝化接触太阳能电池，其特征在于，所述钝化接触太阳能电池根据权利要求1-9中任一所述的方法制备。