[发明专利]一种Ho掺杂硅酸铋绿光荧光体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710373079.6 申请日: 2017-05-24
公开(公告)号: CN107163938A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 徐家跃;温裕贤;田甜;储耀卿;杨波波;张彦 申请(专利权)人: 上海应用技术大学
主分类号: C09K11/74 分类号: C09K11/74;C30B29/34;C30B11/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司31001 代理人: 吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 ho 掺杂 硅酸 铋绿光 荧光 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种Ho掺杂硅酸铋绿光荧光体,其特征在于:其分子式为(Bi1-xHox)4Si3O12,其中x为0.0005~0.05。

2.权利要求书1所述的一种Ho掺杂硅酸铋绿光荧光体的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

1)一个称取反应原料的步骤,所述的原料为Bi2O3、SiO2和Ho2O3,按照分子式(Bi1-xHox)4Si3O12中的各元素化学组成进行配料,x的取值范围是0.0005~0.05;

2)一个采用两步烧结法制备多晶原料的步骤,将上述初始原料充分混合均匀,在700-750 ℃预烧结8-12 h,自然冷却至室温后将原料进行研磨,再在800-850℃下烧结8-12 h,得到组分均匀的Ho掺杂硅酸铋多晶粉末烧结料;

3)一个采用坩埚下降法生长Ho掺杂硅酸铋晶体的步骤,将步骤2)合成的烧结料装入底部装有BSO籽晶的铂金坩埚中,将坩埚装入下降炉中,调整到适当位置使原料处于炉膛高温区,炉温控制在1075 ℃-1200℃,固液界面温度梯度为35-50℃/cm,生长速率控制在0.25-0.5mm/h;待晶体生长结束后,进行原位退火处理,将装有生长晶体的坩埚回升到炉膛内恒温区位置,在800-900℃温度下退火12-15h即得一种Ho掺杂硅酸铋绿光荧光体(已给出范围)。

3.如权利要求2所述的一种Ho掺杂硅酸铋绿光荧光体的制备方法,其特征在于:所述的下降炉炉内可同时安放多只坩埚,实现一炉同时生长多根晶体。

4.如权利要求2所述的一种Ho掺杂硅酸铋绿光荧光体的制备方法,其特征在于:所述的坩埚的形状为圆柱形、长方柱形、或者板状。

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