[发明专利]一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法

说明书

技术领域

本申请涉及触摸屏(TP)保护技术领域，尤其涉及一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法。

背景技术

随着电子科技的飞速发展，越来越多的人使用着电脑、手机、数码相机等电子产品，人们的日常生活更是越来越离不开电子产品，随之而来的视力问题也日益凸显。有新研究表明，蓝光会通过提高视觉细胞对光的敏感度和光氧化反应导致细胞死亡，损害视力。同时，电子产品更高的性能和更快的速度产生的高频化噪声和高频电磁波。而电磁屏蔽材料能够防止高频电磁波干扰，能够抑制噪声源和敏感设备距离较远时通过磁场耦合产生的干扰，因此，兼具抗蓝光抗磁屏蔽膜材料开发显得尤为重要。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法，本申请提供的抗磁抗蓝光保护膜具有良好的抗磁和抗蓝光的特性同时防冲击效果好。

本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜，包括：

第一剥离层；

复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；

复合在所述抗磁功能层上的基材层；

复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；

复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。

优选的，所述抗磁功能层由如下组分制备得到：

有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种

优选的，所述改性本征型导电高分子树脂选自改性聚苯胺、改性聚吡咯和改性聚噻吩中的一种或几种。

优选的，所述金属纤维选自铁、铜和银中的一种或几种；所述金属纤维的粒径为200nm～2μm。

优选的，所述基材层为热塑性聚氨酯弹性基材；所述基材层的透光率为90％以上。

优选的，所述抗磁功能层、基材层和抗蓝光功能层的厚度比为(5～50μm)：(25～100μm)：(10～55μm)。

优选的，所述胶黏剂选自硅胶、亚克力胶、压敏胶和OCA胶中的一种或几种；所述抗蓝光助剂选自水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类和受阻胺类中的一种或几种；所述胶黏剂与抗蓝光助剂的质量比为(95～99.95)：(0.05～5)。

优选的，所述第一剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种；所述第二剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种。

本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜的制备方法，包括以下步骤：

在基材的任意一面涂布包含有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维和助剂的抗磁胶水，固化得到抗磁功能层；在所述抗磁功能层上复合第一剥离层；

在所述基材的另一面涂布包含胶黏剂和抗蓝光助剂的抗蓝光胶水，固化得到抗蓝光功能层；在所述抗蓝光功能层上复合第二剥离层，得到抗磁抗蓝光保护膜。

优选的，所述涂布抗磁胶水的方式为微凹辊涂布；所述涂布抗蓝光胶水的方式为微凹辊涂布。

与现有技术相比，本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。本发明提供的由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到的抗蓝光功能层具有良好的抗蓝光功能；本发明的有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂发生协同作用，制备得到的抗磁功能层具有良好的抗磁功能，并且与现有技术相比，金属纤维不会发生沉淀，抗磁功能良好。同时，本发明制备得到的抗磁抗蓝光保护膜抗冲击性能良好。

附图说明

图1为本发明实施例制备得到的抗磁抗蓝光保护膜的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。