[发明专利]干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法

说明书

本发明公开了一种干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法。干燥系统包括：具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室；多个第一风刀，设置在第一侧壁和第二侧壁上，用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥；和分离装置，用于在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时，使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距，使得空间相交区域内更好地进行空气流通，从而实现空间相交区域内的清洗液也一并被吹除掉，避免掩膜版上残留清洗液。

技术领域

本文涉及但不限于液晶显示技术，尤指一种干燥系统和一种掩膜版上清洗液的干燥方法。

背景技术

精细金属掩膜模式，是通过蒸镀方式将蒸镀材料按照预定程序蒸镀到(低温多晶硅)背板上，利用高精度金属掩膜版上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。

在采用清洗液对掩膜版进行清洗后(掩膜版包括框架、支撑遮挡条和掩膜条，支撑遮挡条为非铁磁性材料，掩膜条为铁磁性材料，掩膜条和支撑遮挡条空间相交而形成空间相交区域，空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条之间的距离较小，积存在空间相交区域处的清洗液在清洗时难以被清洗干净)，目前干燥系统内的风刀为每侧设置两个(在两侧对称设置且每个风刀的出风量相同)，在干燥的过程中风不能够完全地进入到掩膜条和支撑遮挡条的空间相交区域内，在干燥结束之后，在掩膜版上的掩膜条和支撑遮挡条的空间相交区域内仍然会残留清洗液，清洗液长期积累后就会变质和结晶，最终形成颗粒物，会影响蒸镀产品的品质。

发明内容

为了解决上述技术问题中的至少之一，本文提供了一种干燥系统，在清洗掩膜版时可完全地清洗掉空间相交区域内的清洗液，清洗液在进行清洗后不会在空间相交区域内积存，有效确保了掩膜版在后续应用于蒸镀时的蒸镀品质。

为了达到本文目的，本发明提供了一种干燥系统，所述干燥系统包括：具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室；多个第一风刀，设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上，用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥；和分离装置，用于在所述多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时，使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。

可选地，所述分离装置包括磁吸附件。

可选地，所述磁吸附件为磁铁或电磁铁。

可选地，所述分离装置包括第二风刀，所述第二风刀对称设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上，且所述第一侧壁上的第二风刀和第二侧壁上的第二风刀的出风量不同。

可选地，所述分离装置包括第二风刀，所述第二风刀错位设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上。

可选地，所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀上下错位设置，且所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀的出风量相同。

可选地，所述多个第一风刀包括上下间隔设置的多组，且任一组第一风刀的出风量均相同，所述分离装置设置在上下相邻的两组第一风刀之间。

本发明还提供了一种掩膜版上清洗液的干燥方法，在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时，通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距，以使空间相交区域内的清洗液一并干燥。

可选地，所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括：

控制对称设置的第二风刀以不同的出风量对空间相交区域进行吹风，通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。