[发明专利]干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法

权利要求书

1.一种干燥系统，其特征在于，所述干燥系统包括：

具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室；

多个第一风刀，设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上，用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥；和

分离装置，用于在所述多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时，使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。

2.根据权利要求1所述的干燥系统，其特征在于，所述分离装置包括磁吸附件。

3.根据权利要求2所述的干燥系统，其特征在于，所述磁吸附件为磁铁。

4.根据权利要求1所述的干燥系统，其特征在于，所述分离装置包括第二风刀，所述第二风刀对称设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上，且所述第一侧壁上的第二风刀和第二侧壁上的第二风刀的出风量不同。

5.根据权利要求1所述的干燥系统，其特征在于，所述分离装置包括第二风刀，所述第二风刀错位设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上。

6.根据权利要求5所述的干燥系统，其特征在于，所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀上下错位设置，且所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀的出风量相同。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的干燥系统，其特征在于，所述多个第一风刀包括上下间隔设置的多组，且任一组第一风刀的出风量均相同，所述分离装置设置在上下相邻的两组第一风刀之间。

8.一种掩膜版上清洗液的干燥方法，其特征在于，采用如权利要求1至7中任一项所述的干燥系统，在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时，通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距，以使空间相交区域内的清洗液一并干燥。

9.根据权利要求8所述的掩膜版上清洗液的干燥方法，其特征在于，所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括：

控制对称设置的第二风刀以不同的出风量对空间相交区域进行吹风，通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。

10.根据权利要求8所述的掩膜版上清洗液的干燥方法，其特征在于，所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括：

控制错位设置的第二风刀以相同的出风量对空间相交区域进行吹风，通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。

11.根据权利要求8所述的掩膜版上清洗液的干燥方法，其特征在于，所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括：

通过磁吸附件对空间相交区域处的掩膜条进行磁吸附，使得空间相交区域处的掩膜条背向支撑遮挡条侧发生弯曲变形而实现空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。