[发明专利]透明显示装置和制造透明显示装置的方法

权利要求书

1.一种制造透明显示装置的方法，所述方法包括下述步骤：

提供包括像素区域和透射区域的基底；

在所述基底上在所述像素区域中形成第一电极；

在所述第一电极上形成显示层；

在所述显示层上形成第二电极以面对所述第一电极；以及

在所述第二电极上形成覆盖结构，所述覆盖结构包括第一覆盖层和第二覆盖层，

其中，所述形成覆盖结构的步骤进一步包括：通过使用具有开口的掩模在所述第二电极上在所述透射区域的第一区域和所述像素区域中形成所述第一覆盖层；移动所述掩模；通过使用移动后的所述掩模在所述第二电极上在所述透射区域的第二区域和所述像素区域中形成所述第二覆盖层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述开口的宽度与所述像素区域的宽度和所述透射区域的宽度的一半之和基本相等。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，在所述透射区域中，所述第一区域的一个端部与所述第二区域的一个端部相邻。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述覆盖结构在所述像素区域中具有第一厚度，并且在所述透射区域中具有小于所述第一厚度的第二厚度。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述开口的宽度比所述像素区域的宽度与所述透射区域的宽度的一半之和大，并且比所述像素区域的宽度与所述透射区域的宽度之和小。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述透射区域还包括所述第一区域与所述第二区域重叠所处的第三区域。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述覆盖结构在所述像素区域和所述透射区域的所述第三区域中具有第一厚度，并且在所述透射区域的剩余区域中具有小于所述第一厚度的第二厚度，所述剩余区域在所述第三区域之外。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述开口的宽度比所述像素区域的宽度大，并且比所述像素区域的宽度与所述透射区域的宽度的一半之和小。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述透射区域还包括位于所述第一区域和所述第二区域之间的第三区域。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述覆盖结构在所述像素区域中具有第一厚度，并且在所述第一区域和所述第二区域中具有第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。

11.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括在所述第二电极中形成开口部，所述开口部与所述透射区域的至少一部分叠置。

12.一种制造透明显示装置的方法，所述方法包括下述步骤：

提供包括第一像素区域、第一透射区域、第二像素区域和第二透射区域的基底；

在所述基底上在所述第一像素区域和所述第二像素区域中的每个像素区域中形成第一电极；

在所述第一电极上形成显示层；

在所述显示层上形成第二电极以面对所述第一电极；以及

在所述第二电极上形成覆盖结构，所述覆盖结构包括第一覆盖层和第二覆盖层，

其中，所述形成覆盖结构的步骤进一步包括：通过使用具有开口的掩模在所述第二电极上在所述第一像素区域、所述第一透射区域和所述第二像素区域中形成所述第一覆盖层；移动所述掩模；通过使用移动后的所述掩模在所述第二电极上在所述第一像素区域、所述第二像素区域和所述第二透射区域中形成所述第二覆盖层。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述开口的宽度与所述第一像素区域的宽度、所述第一透射区域的宽度和所述第二像素区域的宽度之和基本相等。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述覆盖结构在所述第一像素区域和所述第二像素区域中具有第一厚度，并且在所述第一透射区域和所述第二透射区域中具有小于所述第一厚度的第二厚度。