[发明专利]透射率分布测量系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及光电子技术领域，具体而言，涉及一种透射率分布测量系统及方法。

背景技术

对于高功率激光驱动系统的镀膜元件来说，要求膜层透射率不均匀性＜0.1％(峰谷值)。膜层透射率不均匀性会严重影响激光器出光光束质量，以及元件本身的使用寿命。现有的检测膜层透射率不均匀性的方法为逐点扫描法，这种方式分辨率(有效采样点数)低，耗费时间长，不能满足高功率激光驱动系统的大口径镀膜元件(通光口径大于400mm)的检测需求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种透射率分布测量系统及方法，能够有效地改善上述问题。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：

第一方面，本发明实施例提供了一种透射率分布测量系统，包括出光装置、平移台、成像装置以及控制装置。所述平移台用于放置待测样品，所述平移台位于所述出光装置与所述成像装置之间，所述成像装置与所述控制装置耦合。当待测样品置于所述平移台上时，所述出光装置发出的探测光束入射到所述待测样品的待测区域，透过所述待测样品的探测光束入射到所述成像装置，在所述成像装置中所成的像被转换为电信号发送给所述控制装置。所述控制装置用于根据所述电信号得到所述待测区域的透射图像，根据所述透射图像及基准图像得到所述待测样品的待测区域的透射率分布数据，其中，所述基准图像为所述成像装置采集的所述出光装置发出的探测光束的图像。

进一步的，上述出光装置包括光源和光束调整模块。所述光源发出的初始光束经所述光束调整模块调整为满足预设条件的所述探测光束后入射到所述待测样品的待测区域。

进一步的，上述光源为激光器，所述光束调整模块包括匀光片。所述激光器发出的激光光束入射到所述匀光片，经所述匀光片处理为预设尺寸的均匀光束作为所述探测光束入射到所述待测样品。

进一步的，上述光束调整模块还包括分光器和稳功仪，所述稳功仪与所述激光器耦合，所述分光器设置于所述激光器与所述匀光片之间。所述激光器发出的激光光束入射到所述分光器，经所述分光器分出的一部分所述激光光束入射到所述匀光片，另一部分所述激光光束入射到所述稳功仪。所述稳功仪用于根据接收到的激光光束控制所述激光器的输出功率。

进一步的，上述光源还可以为面阵LED。

进一步的，上述光束调整模块包括滤光片。所述光源发出的光束经过所述滤光片后形成的所述探测光束入射到所述待测样品的待测区域。

进一步的，上述光束调整模块包括光阑。所述光源发出的光束入射到所述光阑，通过所述光阑的通光孔的光束作为所述探测光束入射到所述待测样品。

进一步的，上述成像装置为CCD图像传感器阵列。

第二方面，本发明实施例还提供了一种透射率分布测量方法，应用于上述的透射率分布测量系统，所述方法包括：控制平移台移动以使得所述出光装置发出的探测光束对放置于所述平移台上的待测样品的各待测区域进行扫描；根据基准图像以及成像装置接收到所述待测样品每个所述待测区域透射的探测光束后发送的该待测区域的透射图像得到所述待测样品的透射率分布数据，其中，所述基准图像为所述成像装置采集的所述出光装置发出的探测光束的图像。

进一步的，所述控制平移台移动以使得所述出光装置发出的探测光束对放置于所述平移台上的待测样品的各待测区域进行扫描，包括：获取所述待测样品的形状及尺寸数据；根据所述出光装置发出的探测光束的形状及尺寸数据以及所述待测样品的形状及尺寸数据得到扫描路径；驱动所述平移台控制所述待测样品以所述扫描路径移动，以使得所述出光装置发出的探测光束依次入射到所述待测样品的各待测区域。

相比于现有技术，本发明实施例提供的透射率分布测量系统及方法，通过成像装置对所述待测样品的待测区域透射的探测光束进行成像，并将所成的像转换为电信号发送给控制装置。然后通过控制装置处理该电信号得到该待测区域的透射图像，并进一步根据该透射图像及基准图像得到待测样品的待测区域的透射率分布数据。这样能够有效地提高系统的采样率，减少检测时间，提高测量效率。

为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。