[发明专利]一种加强型结构的MEMS图像传感器像元在审

专利信息
申请号: 201710327901.5 申请日: 2017-05-11
公开(公告)号: CN106989829A 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 赵照 申请(专利权)人: 合肥芯福传感器技术有限公司
主分类号: G01J5/10 分类号: G01J5/10;G01J5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230031 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 加强型 结构 mems 图像传感器
【说明书】:

技术领域

发明涉及图像传感器技术领域,特别涉及一种加强型结构的MEMS图像传感器像元。

背景技术

非制冷的红外热成像传感器和THz成像传感器具备不可替代的应用功能,市场前景较好,且具有价格低、体积小、功耗低、可靠高、操作方便等优点。随着微电子和微机械加工MEMS技术的逐步发展,非制冷红外热成像传感器和THz成像传感器的这些优势被进一步强化,成为高科技技术领域发展的热点之一。

参见图1和图2,是典型的红外热成像传感器10的像元结构,包括微桥11、桥墩12和衬底13,所述微桥11包括桥面111和桥臂112,所述桥面111通过桥臂112连接至桥墩12上,所述微桥11通过桥墩12固定在衬底13上,并通过桥墩12中的引线将桥面111上产生的电信号传递至衬底13上的读出电路,从而检测出电流或电阻的变化,最终实现对红外辐射的探测,进而成像。在上述现有技术中,所述桥臂112为平面直角形状,桥墩12则为空心圆柱体形状,这种造型结构会导致红外图像传感器像元耐冲击能力较弱,仅能够承受100g的力学冲击,无法应用到需要高冲击耐受力的专业领域。

发明内容

为了解决上述问题,本发明从结构出发,提供一种加强型图像传感器像元,能够有效提高像元耐冲击性能。

本发明采用的技术方案为:一种加强型结构的MEMS图像传感器像元,包括微桥、桥墩和衬底,所述微桥包括桥面和桥臂,所述桥面通过桥臂和桥墩固定在衬底上,并通过桥墩将桥面上产生的电信号传递至衬底上的读出电路,所述桥臂的横截面为T型加强结构。

优选地,所述桥臂由金属或金属合金和外保护层组成。

优选地,所述金属合金为钛合金,所述外保护层为氮化硅。

优选地,所述桥墩为多边形的空心柱体形状,所述桥臂是向桥面方向弯曲的形状。

优选地,所述多边形为五边形,所述桥臂为抛物线形。

优选地,所述多边形为六边形,所述桥臂为抛物线形。

优选地,所述多边形为七边形,所述桥臂为抛物线形。

优选地,所述图像传感器为红外热成像传感器。

与现有技术相比,本发明存在以下技术效果:

1)将像元桥臂的横截面设计为T型加强结构,桥臂的结构改进能够显著提高像元的抗冲击能力;

2)采用钛合金并外加氮化硅保护层作为桥臂的制作材料,能够进一步增强像元抗冲击性能;

3)采用多边形空心柱体形状的桥墩,同时将桥臂设计为朝桥面方向弯曲的形状,桥墩与桥臂的加固型设计结合起来即形成像元的缓震结构,可以将像元抗冲击能力提高到15kg,适用于需要高冲击耐受力的专业领域。

附图说明

图1是现有技术中像元俯视结构示意图;

图2是图1中沿A-A方向剖视结构示意图;

图3是本发明像元俯视结构示意图1;

图4是图3中沿A-A方向剖视结构示意图;

图5是本发明像元俯视结构示意图2;

图6是本发明像元俯视结构示意图3;

图7是本发明像元俯视结构示意图4。

具体实施方式

以下结合附图对本发明作进一步描述。

参见图1和图2,分别为现有技术中像元10的俯视结构示意图和剖视结构示意图,从图中可以看出,所述像元包括微桥11和衬底13,所述微桥11包括桥面111和桥臂112,所述桥面111通过桥臂112连接至桥墩12上,所述微桥11通过桥墩12固定在衬底13上,并通过桥墩12将桥面111上产生的电信号传递至衬底13上的读出电路,从而检测出电流或电阻的变化,最终实现对红外辐射的探测,进而成像。在上述现有技术中,所述桥臂112为平面直角形状,桥墩12则为空心圆柱体形状,这种造型结构会导致红外图像传感器像元耐冲击能力较弱,仅能够承受100g的力学冲击,无法应用到需要高冲击耐受力的专业领域。

参见图3和图4,为了增强像元抗冲击性能,本发明提供一种加强型结构的MEMS图像传感器像元20,包括微桥21、桥墩22和衬底23,所述微桥21包括桥面211和桥臂212,所述桥面211通过桥臂212和桥墩23固定在衬底上,并通过桥墩23将桥面211上产生的电信号传递至衬底上的读出电路,本发明的关键在于:所述桥臂的横截面为T型加强结构, T型加强结构能够显著提高像元的抗冲击能力,适用于需要高冲击耐受力的专业领域。

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