[发明专利]质谱仪真空接口方法以及设备有效
申请号: | 201710265943.0 | 申请日: | 2012-12-12 |
公开(公告)号: | CN107068534B | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | A·A·马卡洛夫;L·洛特曼恩 | 申请(专利权)人: | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 |
主分类号: | H01J49/06 | 分类号: | H01J49/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 何焜 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 截取设备 等离子体 光学器件 截取 真空接口 离子提取 质谱仪 膨胀 离子 沉积材料 记忆效应 离子去除 边界层 截取锥 最小化 释出 沉积 优选 邻近 申请 | ||
1.一种用于操作质谱仪真空接口的方法,所述质谱仪真空接口包括一个具有内表面和截取孔的截取设备和下游的离子提取光学器件,所述方法包括:
截取通过所述截取孔的膨胀等离子体,并且
通过提供器件在所述截取设备内将邻近所述截取设备的经截取的等离子体部分与剩余的经截取的等离子体分离,以在允许剩余部分朝所述离子提取光学器件膨胀的同时防止被分离的部分到达所述离子提取光学器件,其中所述器件包括由设置在所述截取设备内的形成通道的构件提供的一个或多个通道,并且邻近所述截取设备的经截取的等离子体部分通过使邻近所述截取设备的经截取的等离子体部分转向到所述一个或多个通道中来进行分离,其中剩余的经截取的等离子体朝所述离子提取光学器件膨胀而没有碰到任何直接阻碍。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述形成通道的构件是环状的形成通道的构件。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述形成通道的构件设置在所述截取设备的内表面中的凹陷内,其中所述截取设备的内表面具有锥形部分,并且所述截取设备的内表面中的凹陷在锥形部分的下游。
4.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述形成通道的构件的内直径大于内表面的锥形部分的下游端的直径。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述凹陷是总体上圆柱形的凹陷。
6.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述形成通道的构件配备有一个或多个沿着所述形成通道的构件的本体延伸的开口,其中等离子体的被分离的部分通过所述一个或多个开口被排出。
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