[发明专利]一种阵列基板、显示面板及显示装置

说明书

本申请公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，防止电极层边缘塌陷，进而提高产品工作稳定性。本申请实施例提供的一种阵列基板，该阵列基板包括：衬底、位于所述衬底之上呈阵列分布的电极层、位于所述衬底之上且与所述电极层相互间隔设置的垫高层、以及位于所述垫高层之上的像素界定层；所述电极层与所述垫高层接触。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

有机电致发光显示器具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，有机电致发光显示技术已经成为一种重要的显示技术。

针对有机发光二极管(OLED)或高分子发光二极管(PLED)有机电致发光器件，有机薄膜的形成方法有真空蒸镀和溶液制程两种方法，真空蒸镀方法，适用于有机小分子，其特点是有机薄膜的形成不需要溶剂，薄膜厚度均一，但是设备投资大、材料利用率低、不适用于大尺寸产品的生产。溶液制成包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，适用于聚合物材料和可溶性小分子，其设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。现有技术中，像素界定层一般由两层组成，第一层由无机材料组成的亲液层，第二层由有机材料组成的疏液层，两层浸润性不同的材料组成的像素界定层能够使溶液精准打印和形成厚度均一的有机薄膜。采用等离子气相沉积工艺制备无机像素界定层时，制备过程中的物质或者气体会与平坦化层上残留的蚀刻液发生化学反应，致使平坦化层产生孔洞，造成阳极边缘塌陷，进而影响OLED器件性能。

综上，现有技术中像素界定层制备过程容易对平坦化层造成损伤，造成阳极边缘塌陷，影响产品工作稳定性。

发明内容

本申请实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，防止电极层边缘塌陷，进而提高产品工作稳定性。

本申请实施例提供的一种阵列基板，该阵列基板包括：衬底、位于所述衬底之上呈阵列分布的电极层、位于所述衬底之上且与所述电极层相互间隔设置的垫高层、以及位于所述垫高层之上的像素界定层；所述电极层与所述垫高层接触。

本申请实施例提供的阵列基板，由于所述垫高层位于所述衬底之上，所述像素界定层位于所述垫高层之上，即像素界定层和衬底之间设置垫高层，从而可以减少电极层蚀刻后蚀刻液的残留，进而避免像素界定层直接设置在衬底上的制备过程中在衬底发生化学反应，即可以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，进而可以减少电极层边缘塌陷的情况，可以提高产品工作稳定性。

较佳地，所述电极层与所述像素界定层接触面为曲面。

本申请实施例提供的阵列基板，所述电极层与所述像素界定层接触面为曲面，从而可以增大像素界定层覆盖电极层边缘的面积，即便电极层边缘发生塌陷，在平行于衬底方向上，像素界定层覆盖电极层边缘的宽度不变，从而可以避免电极层边缘塌陷导致的像素界定层无法覆盖电极层边缘，进而可以防止电极层边缘出现尖端放电等问题对阵列基板工作稳定性的影响。

较佳地，所述垫高层的材料包括下列材料之一或组合：聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯基乙胺、聚萘二甲酸乙二醇酯。

较佳地，所述像素界定层包括：无机像素界定层和位于所述无机像素界定层之上的有机像素界定层；所述无机像素界定层完全覆盖所述电极层的曲面。

较佳地，所述有机像素界定层的材料包括下列材料之一或组合：聚硅氧烷、氟化聚酰亚胺、氟化甲基丙烯酸甲酯。

较佳地，所述无机像素界定层的材料包括：氧化硅或氮化硅。

较佳地，所述衬底为平坦化层。

较佳地，所述电极层为阳极层。

本申请实施例提供的一种显示面板，所述显示面板包括本申请实施例提供的阵列基板。