[发明专利]微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用在审
申请号: | 201710260794.9 | 申请日: | 2017-04-20 |
公开(公告)号: | CN106883768A | 公开(公告)日: | 2017-06-23 |
发明(设计)人: | 孙韬;李佳铌 | 申请(专利权)人: | 宁波日晟新材料有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 北京立成智业专利代理事务所(普通合伙)11310 | 代理人: | 吕秀丽 |
地址: | 315410 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微酸 条件下 碱性 玻璃 抛光 以及 应用 | ||
技术领域
本发明涉及一种抛光液以及生产工艺,特别是用于加工如玻璃制品的抛光液以及应用。
背景技术
当前玻璃加工企业生产中所使用的抛光液主要是在碱性条件下,以大颗粒氧化铈粉做抛光摩擦剂,表面活性中心少,分散稳定性差,总体抛光速率低,更有甚者,容易导致严重的表面划伤,还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率,造成抛光机的迅速磨损,生产效率低,以及大量的耗材消费。同时由于目前市场上广泛应用的多为碱性硅酸钠玻璃,采用微酸性玻璃抛光液虽然开始抛光效率非常高,但碱性玻璃在抛光过程中释放碱性硅酸钠,在玻璃稀土抛光液循环使用过程中,导致抛光液pH随抛光时间的延长不断升高,失去抛光效率。
发明内容
本发明目的在于发明一种接近稀土表面零电位,与硅酸盐表面亲和性好,分散稳定性好、平化抛光效率高、抛光表面划伤低,不损伤抛光机的微酸性玻璃抛光液。
技术方案为:
微酸性条件下的碱性玻璃抛光液,有效成份为稀土氧化物,以及一种有机和/或无机缓冲液,使抛光液保持pH在5-8之间。
在其中一些具体实施例中,优选的,所述抛光液PH在5.5-6.5之间。
在其中一些具体实施例中,缓冲液占抛光液的总重量的0.001%~10%。
在其中一些具体实施例中,所述稀土氧化物优选氧化铈。
在其中一些具体实施例中,所述无机缓冲液选自无机酸或无机酸盐,优选磷酸或磷酸盐、硼酸或硼酸盐中的一种。
在其中一些具体实施例中,所述有机缓冲液选自有机酸或有机羧酸盐,优选有机脂肪酸、有机脂肪酸盐、有机酸聚合物、有机酸聚合物盐、有机磺酸、有机磺酸盐、有机磷酸、有机磷酸盐、氨基酸、氨基酸盐、聚氨基酸、聚氨基酸盐中的一种。
为了制成悬浮性能更高的抛光液,在其中一些具体实施例中,抛光液中还含有添加剂,其中添加剂与稀土氧化物的质量比为0.001~0.1︰1;所述添加剂选自有机磷酸盐表面活性剂、有机胺、有机铵盐、醇胺、聚环氧烷醇、聚丙烯酸、聚氨酯中的一种。
本发明产品悬浮性强,不宜沉积,分散稳定性好,抛光效果稳定,表面缺陷低,抛光无划痕,可有效提高平化抛光效率,抛光效率可达893纳米/分钟,且不易造成对抛光机的损伤。
本发明的第二个目的是提供发明产品的应用。
用途之一是:用于含硅化合物以及其它各种氧化物或半导体或导体表面的抛光。
用途之二是:用于玻璃制品表面抛光。
所述玻璃制品包括计算机玻璃硬盘或FPD玻璃或CD或DVD母盘玻璃或光学玻璃制品。
用途之三是:用于芯片生产的绝缘氧化层的抛光。
用途之四是:用于单晶硅的抛光。
本发明的有益效果:
1.本发明引入弱酸/弱酸盐缓冲系统,具体的是无机酸、无机酸盐、有机酸、有机羧酸盐,在玻璃稀土抛光液循环使用过程中,导致抛光液pH可以长期保持在酸性环境中,保持高切削率。
2.抛光液中加入表面活性剂等稳定剂,使抛光液的分散稳定性好、平化抛光效率高、抛光表面划伤低,不损伤抛光机。
3.该抛光液可用于含硅化合物以及其它各种氧化物或半导体或导体、玻璃制品、单晶硅表面、芯片生产的绝缘氧化层的抛光。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明做进一步详细说明。
实施例一:
1、制备方法:
称取120克市场上购买的金阳含铈混合稀土氧化物,加入4517克水中,室温下搅拌均匀,制成混合稀土氧化物悬浮液。
为保持抛光液最高效率,pH缓冲剂柠檬酸/柠檬酸盐溶液加入到新合成的表面改性混合稀土氧化物悬浮液中,将pH稳定在3.5-6.5。
为了制成悬浮性能更高的抛光液,还可再向硅酸盐改性的混合稀土氧化物悬浮液分别加入38克添加剂,分别制成抛光液样品A、B、C、D,E,F其pH分别为2.5,3.5,4.5,5,5.5,6.5,8,8.5,10.5。
添加剂可以是十二烷基磷酸纳表面活性剂。
2、应用实例:
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