[发明专利]连续式沉积装置及连续式沉积方法在审
申请号: | 201710232729.5 | 申请日: | 2017-04-11 |
公开(公告)号: | CN108690974A | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 苏暐民;张博杰;陈明琳 | 申请(专利权)人: | *杰有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭蔚 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固持腔 反应腔室 固持组件 连续式 卷材 沉积 沉积装置 泵浦 室内 彼此连接 反应物 | ||
一种连续式沉积装置,其包含:第一固持腔室,其包含第一固持组件,其设置于第一固持腔室内;第一泵浦,其与第一固持腔室连接,以调整第一固持腔室的压力;第二固持腔室,其包含第二固持组件,其设置于第二固持腔室内,其中卷材的两端分别固定于第一固持组件以及第二固持组件;第二泵浦,其与第二固持腔室连接,以调整第二固持腔室的压力;以及多个反应腔室,其彼此连接,其中上游侧的反应腔室与第一固持腔室连接,下游侧的反应腔室与第二固持腔室连接,使卷材连续地通过多个反应腔室,且多个反应腔室分别提供反应物沉积于该卷材上。同时提供一种连续式沉积方法。
【技术领域】
本发明是有关一种沉积装置及沉积方法,特别是有关于一种连续式沉积装置及连续式沉积方法。
【背景技术】
气相沉积制程在各种领域中均被广泛的应用,其中,在化学气相沉积反应中,是将一种或多种不同的前驱物暴露于基材表面以产生化学反应而进行沉积,一般来说,为了获得高纯度的产物,在沉积反应中调整压力是用于将不需要的气体去除,以避免产生非必要的反应而获得杂质,因此在不同的反应物沉积过程中,常需要进行反复的抽真空/破真空步骤。然而,在沉积制程的研发中,目前有需要在同一基材上进行多种反应物的沉积反应,若以传统方法反复进行抽真空/破真空步骤,则可能需要耗费较多时间,且亦将制程步骤复杂化。若能提供一种能连续性的执行多种沉积制程的装置,应可有利于时间成本的节省并提升产率。
【发明内容】
本发明提供一种连续式沉积装置,通过将多个沉积腔室相互结合,以达到连续化制程的目的,可避免传统制程需要反复进行抽真空/破真空的步骤,因而可节省制程时间,增进经济效益。
本发明提供一种连续式沉积装置,其包含:第一固持腔室,其包含第一固持组件,其设置于第一固持腔室内;第一泵浦,其与第一固持腔室连接,以调整第一固持腔室的压力;第二固持腔室,其包含第二固持组件,其设置于第二固持腔室内,其中卷材的两端分别固定于第一固持组件以及第二固持组件;第二泵浦,其与第二固持腔室连接,以调整第二固持腔室的压力;多个反应腔室,其彼此连接,其中上游侧的反应腔室与第一固持腔室连接,下游侧的反应腔室与第二固持腔室连接,使卷材连续地通过多个反应腔室,且多个反应腔室分别提供反应物沉积于该卷材上。
本发明另提供一种提供连续式沉积方法,其包含下列步骤:提供连续式沉积装置,其包含:第一固持腔室,其包含第一固持组件于其中,且具有第一泵浦以调整第一固持腔室的压力;第二固持腔室,其包含第二固持组件于其中,且具有第二泵浦以调整第二固持腔室的压力,其中卷材的两端分别固定于第一固持组件以及第二固持组件;及多个反应腔室,其彼此连接。本发明的连续式沉积方法更包含下列步骤:将卷材连续地通过多个反应腔室、以及由多个反应腔室沉积反应物于卷材上。
以下借由具体实施例配合所附的图式详加说明,当更容易了解本发明的目的、技术内容、特点及其所达成的功效。
【附图说明】
图1为根据本发明实施例的连续式沉积装置的示意图。
图2为根据本发明另一实施例的连续式沉积装置的部分示意图。
图3A及图3B为根据本发明另一实施例的连续式沉积装置的示意图。
图4为根据本发明实施例的连续式沉积方法的流程图。
【符号说明】
11 第一固持腔室
12 第二固持腔室
21 第一固持组件
22 第二固持组件
23 第三固持组件
30、31、32、33 反应腔室
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的