[发明专利]有机EL显示面板及其制作方法

权利要求书

1.一种有机EL显示面板，包括：

多个显示元件，形成在基板上；

第一密封层，配置于所述多个显示元件上；

缓冲层，覆盖所述第一密封层；以及

第二密封层，覆盖所述缓冲层，

所述第一密封层、所述缓冲层以及所述第二密封层是氮化硅膜，

作为所述缓冲层的氮化硅膜中的氨的气体脱吸量的峰值高于作为第一密封层以及第二密封层的氮化硅膜中的氨的气体脱吸量的峰值的100倍且低于1000倍。

2.根据权利要求1所述的有机EL显示面板，其中，

所述缓冲层具有所述第一密封层以及所述第二密封层的3倍以上且50倍以下的厚度。

3.根据权利要求1或2所述的有机EL显示面板，其中，

所述缓冲层的厚度为2μm以上且10μm以下。

4.一种有机EL显示面板的制作方法，其中，

在基板上配置多个显示元件，

通过第一密封层密封所述多个显示元件，

通过缓冲层覆盖所述第一密封层，

通过第二密封层覆盖所述缓冲层，

所述第一密封层、所述缓冲层、所述第二密封层是氮化硅膜，

所述氮化硅膜的成膜通过以氨气为原料的化学气相沉积法进行，

将进行所述缓冲层的成膜时的氨气的气体量设为高于进行第一密封层以及第二密封层的成膜时的氨气的气体量的4倍且低于20倍的值，

其中，所述化学气相沉积法的原料还包括硅烷气，进行所述缓冲层的成膜时的硅烷气的气体量设为高于进行第一密封层以及第二密封层的成膜时的硅烷气的气体量的2倍且低于6倍的值，

其中，在进行缓冲层的成膜时用于使氨气、硅烷气、氮气反应的压力设为高于在进行第一密封层以及第二密封层的成膜时氨气、硅烷气、氮气反应时的压力的2倍且低于5倍的值。

5.根据权利要求4所述的制作方法，其中，

所述化学气相沉积法的原料还包括氮气，进行所述缓冲层的成膜时的氮气的气体量与进行第一密封层以及第二密封层的成膜时的氮气的气体量相同。